椭圆曲线加密算法与FPGA硬件实现

文章系统阐述了基于椭圆算法的椭圆曲线加密技术(ECC),并将其与当今国内流行的RSA加密技术进行比较,指出了ECC加密算法的优越性和可实现性;同时文中给出了PFGA硬件实现的方案,提出ECC加密技术是未来密码技术发展的方向。     

非晶硅薄膜的低频辉光放电淀积

本文报导了利用低频(50赫)辉光放电法淀积非晶硅薄膜。测量了膜的电阻率、光学常数和红外吸收谱。实验表明该膜有良好的肖特基势垒特性和对硅器件的表面钝化作用。     

CMOS 6管静态存储单元晶体管尺寸的估算

文章采用萨方程对CMOS工艺的6管静态存储单元结构进行分析计算,探讨了在工艺特征尺寸确定的情况下,晶体管沟道宽度为何值时存储阵列的数据输出延迟最小的估算方法;利用Matlab求解得到一个非线性方程;该方法适用于不同的存储阵列和特征尺寸,可以快速地估算出晶体管沟道宽度,为设计存储器单元版图时提供了方便。     

氢化非晶硅膜在半导体器件表面钝化上的应用

本文叙述一种新的钝化膜——氢化非晶硅(a—Si:H)薄膜在硅半导体器件表面钝化上的应用。发现这种薄膜复盖于器件表面可以使PN结的反向漏电流明显减小,器件的小电流h_(FE)有较大幅度的提高。试验了三种不同的钝化方案,并对其钝化效果作了比较。根据实验结果,初步探讨了这种氢化非晶硅薄膜的钝化机理,指出其良好的钝化作用在于这种薄膜具有半绝缘、电中性和富含氢的特点。给出了钝化器件的长期可靠性试验结果。     

微电子工艺实验教学模式探索

采用微电子工艺实验教学模式，即工艺实验教学由实际操作的工艺实验、工艺录像学习、器件与工艺仿真实验和多媒体辅助实验教学组成，阐述了具体内容。这种微电子工艺实验教学模式的建立，可满足本专业对微电子工艺实验的教学要求，有助于提高专业教学质量、提高学生的实际工作能力和专业素质、培养有竞争力的高质量的微电子人才。