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采用松理化学气相沉积(即PCVD)技术,在不同的温度和时间下制备2组TiN涂层试样;讨论了温度与时间对涂层性能的影响,并在微观结构分析基础上,讨论了时间和温度等工艺参数与微观结构和性能间的关系 相似文献
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以硬质合金作为衬底,分别采用了化学涂层(CVD)和物理化学涂层(PCVD)的技术涂复Ti(C,N)-TiN硬质膜,应用X射线光电子谱分析(XPS)技术,研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ti,N,C,O和Co组成;表面物相包括TiN,TiO_x及CoO.随着深度的增加,Ti:N迅速变为1,而TiO_x和CoO含量急剧减少. 相似文献
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