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出版年
  1989年   2篇
  1982年   1篇
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1.
本文用镜像法分析再生过程中,从施加在记录磁介质上的记录磁化强度析出的磁通和耦合到再生磁头的磁通,根据两种回路磁阻不同的影响计算出交链于再生磁头线圈中的磁通.由此可求得,当具有模拟信号的记录磁介质进入再生磁头的前部空间时所产生的再生电压.计算结果表明,再生电压的幅值中包含着许多重要的记录损失参数.  相似文献   
2.
本文叙述了刻痕和施加张应力使多晶High-B硅钢损耗降低的情况;同时指出,损耗降低的原因在于刻痕和张应力的作用导致了可逆次畴结构的出现,并引起了180°主畴壁间距的细化.  相似文献   
3.
  相似文献   
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