钛基富钙SiO2薄膜仿生诱导沉积碳磷灰石涂层

采用溶胶-凝胶法在纯钛基底表面制备富钙S iO2薄膜,将所制备的样品进行模拟体液(1.5SBF)浸泡实验,并对浸泡前后薄膜表面的组成、结构与形貌变化进行了研究.结果表明,纯钛基底表面涂覆富钙S iO2的薄膜在1.5SBF中浸泡7 d后其表面可迅速形成由球状碳磷灰石(CHA)颗粒组成的沉积层.     

水热电沉积羟基磷灰石涂层工艺条件的研究

电解液中Ca(NO3)2的浓度为0.005～0.042mol/L,NH4H2PO4的浓度为0.0025～0.025mol/L,在pH3.7～5.5,100～200℃,0.1～0.8mA/cm2条件下,采用水热电沉积法制备得到羟基磷灰石涂层,探讨了不同工艺条件对涂层表面形貌和涂层质量的影响.实验结果表明:HA晶体尺寸随温度升高、溶液浓度增大、pH升高和沉积时间延长呈增大趋势,但随电流密度的变化不大;涂层质量随温度升高、溶液浓度增大、pH升高先增后减,随电流密度增大和沉积时间延长而增大.