纳米光催化材料的水热法合成

文章通过了解国内外水热法的研究,查阅纳米功能材料的各种制备方法,详细介绍了水热法的基本情况,包括定义、原理、分类、适用条件等,并将水热法与其他制备方法进行比较。文章还简单描述了水热法制备光催化材料的研究进展,并对水热法的未来进行了展望。经过对比发现:水热法与其余方法比较而言具有可制备粉体种类多、可直接获得结晶良好的粉体、晶粒线度适度可调、低耗能高产出、工艺较简单等优点;同时也有着反应周期长、现阶段通常用于制备氧化物粉体、对生产设备的依赖性比较强的缺点。但科学家们也在不断地发展改良,其中溶剂热法、超临界水热法、微波水热法就是水热法的改良与发展。最后从多个不同的方面介绍了现阶段水热法制备光催化材料的研究进展,这些都充分说明了水热法的发展潜力。     

脉冲偏压占空比对磁控溅射制备ITO薄膜光电性能的影响

作为应用最为广泛的ITO透明导电薄膜一直是材料和电子领域研究的热点之一。实验利用磁控溅射方法制备了不同脉冲偏压占空比的ITO薄膜。采用X射线衍射仪(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)、紫外-可见光分光光度计和霍尔效应测量仪分别对薄膜的微观结构、表面形貌和光电特性进行了测试分析。结果表明:占空比变化对ITO薄膜性能有着显著的影响。薄膜存在(211)(222)和(440)三个衍射峰,择优取向随着占空比的改变而改变,而且不同的占空比导致薄膜的晶粒尺寸发生了明显的变化。另外,随着占空比增加,薄膜的透过率和电阻率呈现非线性变化的趋势,薄膜在560纳米波段有97%的高透过率。当占空比为20%时,薄膜具有最低电阻率(2.70×10~(-4)Ω·cm)和最高可见光平均透过率(89.58%),此时薄膜的光电性能相对最佳。