复杂聚合物乳液的稳定性与电动电势的关系研究

利用界面电泳的方法对聚丙烯酸酯乳 液的稳定性及其影响因素进行了研究，结果表明，聚丙烯酸酯乳液的稳定性依赖于其内在结构，因含量、pH值和交联剂含量，这些影响因素可以用电荷密度及表面积的改变来解释。     

用荧光光谱法研究聚(甲基环己基硅烷)的光解过程

研究了在空气中经紫外光辐照前后的聚（甲基环己基硅烷）（简记为：ＰＭＣＳ）溶液或膜的荧光光谱。结果表明,随着紫我光照时间的增加,ＰＭＣＳ溶液和膜的荧光光谱峰位依次蓝移,荧光强度依次降低,并用ＧＰＣ,ＸＰＳ及ＩＲ光谱研究了在空气中经紫外光辐照前后的ＰＭＣＳ溶液或膜。结果表明,其荧光光谱峰位蓝移及荧光强度降低,与聚硅烷发生了光降解和光氧化过程有关。     

聚2.6萘二甲酸乙二酯结晶动力学的研究

用反相色谱法研究了聚2.6萘二甲酸乙二酯在高温区(233,5—246℃)和低温区(142—156℃)的结晶动力学,得到了半结晶时间、结晶速率常数以及Avrami指数.测定了聚2.6萘二甲酸乙二酯的晶片折迭表面自由能δ_e;计算了结晶动力学方程中的前置指数G_ο,初步得出聚2.6萘二甲酸乙二酯的结晶速率比一般高分子慢.     

聚硅烷用作紫外亚微米光刻胶

讨论了用醇酸树脂或聚氨脂树脂为平坦层，几种不同的枝状和线状聚硅烷为抗蚀层，在玻璃基片上的XeCl准分子激光光刻效果。由于聚硅烷与其它树脂相容性不好，作者将含氟聚硅烷作为添加剂添加到枝状聚硅烷中进行光刻实验，获得最小分辨率为0．5μm的明暗线条等宽图形，对以不同聚硅烷相互作为添加剂，将其配方性能优化进行了有益的尝试。对多种影响图形转移质量 的因素进行了一些定性的讨论。     

含氯聚硅烷的合成与表征

将光敏基团C1直接键连在聚硅烷大分子上，用3种方法合成了含氯聚硅烷：①用硅氢化反应将氯丙烯加成到聚硅烷上；②用含苯基聚硅烷中的苯环进行氯甲基化反应；②在Wurtz缩合反应完成后直接从反应体系中将端基含氯的聚硅烷分离出来．对产物分别进行了^1HNMR、FT-IR、GPC和XPS表征．     

聚硅烷的光化学过程研究

研究了在空气中经紫外光辐照前后的聚（甲基环己基硅烷）简记为：PMCS）溶液和甲基环己基硅烷－甲基苯乙基硅烷共聚物（简记为：Copolymer)溶液的荧光光谱，结果表明，随着紫外光光照时间的增加，这两种聚硅烷溶液的荧光光谱峰位依次蓝移，荧光强度依次降低，并用UV光谱，GPC，XPS及IR光谱 在空气中经紫外光辐照前后的PMCS和Copolymer溶液，结果表明，这两种聚硅烷溶液的荧光光谱峰位蓝移及荧光强度降低，与聚硅烷发生了光降解和光氧化过程有关。     

热固性丙烯酸酯乳胶固化行为的研究

本文用动态力学扭辫分析法,研究了丙烯酸酯共聚乳胶与六甲氧基甲基三聚氰胺的热固化动态力学行为。结果表明,热固化丙烯酸酯仅含羧基的共聚乳胶固化是一步完成,既含羧基又含羟基的乳胶固化分两步进行,第一阶段羧基参与固化反应,第二阶段是羟基反应。     

聚硅烷共聚物的合成及表征的研究

采用二甘醇二甲醚和１５－冠－５为螯合剂，根据Ｗｕｒｔｚ还原反应合成了多种聚硅烷共聚物，进行了ＧＰＣ，ＵＶ，＾１Ｈ－ＮＭＲ和ＦＴ－ＩＲ表征。发现在聚硅烷共聚物的合成中单体的投料比与产物中相应链节的共聚比相近，并对这一现象进行了初步解释；在ＦＴ－ＩＲ谱中观察到含有与硅链直接相连的侧苯基的聚硅烷的苯环骨架，在１６００ｃｍ＾－１附近的特征振动峰收缩到极弱强度，甚至消除。     

枝状聚硅烷的合成与表征

用“顺点滴式”方法改进了单体合成,较原“全混式”提高了产率,降低了消耗;用Wurtz法以二氯硅烷和三氯硅烷为原料,经“预聚”和“混聚”二种方式合成了枝状聚硅烷。     

聚2.6-萘二甲酸乙二酯光导电性的初步研究

以前用于静电复印的光导材料大都是无机化合物,如硒、氧化锌和硫化镉等,1969年国外出现有机光导体复印机后,对高分子光导材料的研究已广泛开展。我国聚乙烯咔唑已用于静电复印技术,聚2.6-萘二甲酸乙二酯(简称聚萘酯、PEN-26)作为静电复印材料日本已有专利报导,国内至今尚缺,因此我们开展了聚萘酯光导电性的初步研究,并试图讨论光导电性的机理。