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提出一种改进了的计算衬底非均匀掺杂MOS器件开启电压的算法。这种算法对增强 (E-)和耗尽(D-)型 MOS器件都适用,且避免了对泊松方程的严格数值求解。所需 计算时间短,而精度足以满足计算机工艺模拟的一需要。本算法巳在SUPREM-Ⅲ中实 现,取代了原程序中不正确的部分。模拟和测试结果相比较得到的一致性证实了该算法 是有效的。本文还对算法的理论基础进行了讨论。 相似文献
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