氧化锌薄膜的制备技术

介绍了氧化锌薄膜的制备方法，主要有物理和化学两种方法。物理方法有：分子束外延法（MBE），脉冲激光溅射沉积法（PLD）以及磁控溅射法；化学方法有：溶液镀膜法和各种化学气相淀积（CVD）。重点讨论了磁控溅射法的优缺点及展望。     

锗/氧化硅和碳/氧化硅薄膜电致发光的比较研究

分别以锗-氧化硅和碳-氧化硅复合靶作为溅射靶,采用射频磁控共溅射技术在p型硅衬底上淀积了含纳米锗的氧化硅薄膜Ge/SiO2和含纳米碳的氧化硅薄膜C/SiO2。将各样品在氮气氛中经过600℃退火处理30min,然后,在p型硅衬底背面蒸镀铝电极,并经过合金形成良好的欧姆接触,最后,在纳米薄膜上蒸镀半透明的Au膜以形成Au/Ge/SiO2/p-Si和Au/C/SiO2/p-Si结构。当正向偏压在5-12V时,对两种结构的电致发光谱（EL）进行了测量,并对其发光机制进行了讨论。