铬电沉积过程及H2SO4的作用

在铬镀液(CrO_3/H_2SO_4=250/2.5Wt.)中,电流扫描实验结果表明,铬在玻璃碳电极上沉积需要成核过电位;而在铜电极上不需要成核过电位,其晶核由电极表面氧化膜(CuO CrOH)还原生成的金属Cr提供。铬电沉积前后,CrO_3还原机理不同,H_2SO_4 的作用也不同,沉积前,H_2SO_4的作用主要是活化电极表面,促使CrO_3还原,同时还使表面氧化膜溶解。沉积后,H_2SO_4 则起着保持电极表面附近阴极膜相对稳定的作用,还可能与 Cr(Ⅳ)形成易还原的配合物。     

糖精对电沉积镍的结构与电化学活性的影响

从含糖精（＞０．０６ｇ／Ｌ）的Ｗａｔｔｓ液中得到的含硫镍的电化学活性高，不易钝化，而从不含糖精的Ｗａｔｔｓ液中得到的无硫镍却易钝化。Ｘ射线衍射结果表明，含硫镍晶粒较细，且其晶格参数及织构与无硫镍不完全一致，糖精浓度小于０．０６ｇ／Ｌ时得到的沉积层表现出两个不同电位区的阳极溶出峰，说明了镀层包含着不同活性的区域，此种沉积层的晶格参数，织构及晶粒尺寸受糖精浓度的影响较大。     

电沉积Ni—Fe合金的穆斯堡尔效应

对电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的穆斯堡尔谱分析表明γ相Ｎｉ－Ｆｅ合金的同质异能移（Ｉ．Ｓ．）为－０．０６－０．０２ｍｍ／ｓ；ａ相的Ｉ．Ｓ．为－＋０．０５ｍｍ／ｓ，与冶冻Ｎｉ－Ｆｅ合金的Ｉ．Ｓ．（冶冻Ｎｉ－Ｆｅ合金的γ相Ｉ．Ｓ．为－０．１９－－０．０２ｍｍ／ｓ；ａ相Ｉ．Ｓ．Ｓ为－０．０７－０．１０ｍｍ／ｓ）相比，向正值方向偏移，γ相平均偏移０．１８ｍｍ／ｓ，ａ相约０．１３ｍｍ／ｓ，电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的磁超     

电沉积Ni－Fe合金的穆斯堡尔效应

对电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的穆斯堡尔谱分析表明γ相Ｎｉ－Ｆｅ合金的同质异能移（Ｉ．Ｓ．）为－０．０６～０．０２ｍｍ／ｓ；α相的Ｉ．Ｓ为～＋０．０５ｍｍ／ｓ，与冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金的Ｉ．Ｓ．（冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金的γ相Ｉ．Ｓ为－０．１９～－０．２２ｍｍ／ｓ；α相Ｉ．Ｓ．为－０．０７～０．１０ｍｍ／ｓ）相比，向正值方向偏移，γ相平均偏移０．１８ｍｍ／ｓ，α相约０．１３ｍｍ／ｓ．电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金的磁超精细场随合金中Ｆｅ含量的变化情况与冶炼Ｎｉ－Ｆｅ合金中的情况不完全一样。此外，还观察到电四极裂矩不等于零，表明电沉积Ｎｉ－Ｆｅ合金中存在电场梯度．根据镀层合有杂质Ｓ和结构缺陷的特点，讨论了上述穆斯堡尔参数的变化情况。     

铬镀液中CrO3的电化学还原

通过对酸性铬镀液的电化学测试以及对电极表面的XPS分析,发现在金属铬沉积前,铜阴极上发生多步骤的铬酸电还原反应,其中间产物与电极表面发生化学作用,形成主要成分为CuOCrOH的氧化膜;与此同时,电极表面附近形成阴极膜,氧化膜及阴极膜的存在引起异常的循环伏安图和负阻现象。