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用EDAX和AES分析了离子束动态混合处理的Φ1.57-1.60mm微型滚珠表面的均匀性和界面混合情况,在100keV的N离限束动态混全条件下,界面混合区达140nm以上;同一球面不均匀度小于1%,球间不均匀度小于15%。结果表明,为提高这类轴承的使用寿命,在适当工艺条件下采用离子束表面强化处理,完全可以达到实际应用的要求。 相似文献
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用Ar~+离子束溅射高纯多晶Ni靶,在Si(100)基面上沉积150nm的Ni膜。经400℃的真空退火1小时后,分别用XRD和XPS检验了两种大小不同角度上沉积试样的生成相及界面态。当沉积角≥66°时,试样退火后仅出现Ni膜择优取向晶化,无硅化物生成。而在接近0°的小角度处沉积的试样,在相同条件退火后则出现以NiSi为主的三种硅化物混合相。 相似文献
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利用离子束辅助技术在黄铜与20^#钢衬底上进行了沉积MoSx膜的研究。对该膜在常温大气环境中的摩擦损特性用针-盘磨损试验进行了评价;用XRD和XPS检查了磨损前后膜的生成相,组分及Mo元素价态的变化,发现不同度衬底上的MoSx膜在磨损中出现显著不同的结晶学变化,并对这一现角作了讨论。 相似文献
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