首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:从到   被引次数:从到   他引次数:从到 提示：输入*表示无穷大
全文获取类型
  收费全文   1篇
  免费   0篇
专业分类
综合类   1篇
出版年
  2022年   1篇
排序方式： 共有1条查询结果，搜索用时 0 毫秒
1
1.
王杨  阮妹  杨梦雨  王茜 《华东科技》2022,(12):60-62
<正>光刻机又名掩模对准曝光机、曝光系统、光刻系统等,是大规模半导体制造的核心设备,它的精度决定了芯片制程的精度,被誉为半导体工业皇冠上的明珠。全球高精度半导体用光刻机主要来自荷兰的ASML以及日本的Nikon和Canon这三家公司,而最顶级的EUV光刻机仅有ASML公司能够生产,最高能支持2nm芯片的制造,  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号