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1.
高能X射线源尺寸测量方法的Monte Carlo模拟   总被引:1,自引:0,他引:1  
介绍了对X光源尺寸的测量原理。在高能X射线情况下,利用Monte Carlo模拟法确定测量X光源尺寸的狭缝法、刃边法和Roll-Bar法的适用性,指出刃边法和Roll-Bar法可以直接用来测量光源尺寸,而狭缝法需要借助于Monte Carlo计算才能得到所需要的结果。根据实验测量的图像波形,得到实际轫致辐射源的半高全宽(FWHM)大于3.0 mm。  相似文献   
2.
为了更好地解决闪光照相深穿透中粒子碰撞位置而带来的大记录问题,提出了权重抽样法。该方法根据X光衰减特性,结合粒子输运的权重因子方法和Monte Carlo随机抽样方法,有效地降低了深穿透问题中深穿透区粒子碰撞几率的涨落。将此方法应用到MCNP(Monte Carlo N-particle)中,减小了与解析计算结果的误差,提高了累积因子的计算精度。  相似文献   
3.
电子与靶相互作用产生X射线源的正确模拟是精确模拟辐射照相过程的关键。在说明击靶电子束的束斑尺寸和发射度两个重要参数及其相互关系的基础上,给出了轴对称情形下电子束分布为Guass分布、均匀分布(KV分布)和水袋分布(WB)的抽样方法。通过举例说明了这些抽样方法的正确性,而且在实际辐射照相的Monte Carlo模拟中必须考虑电子束的发射度。  相似文献   
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