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薄膜均匀性的研究分析   总被引:1,自引:0,他引:1  
薄膜技术在现代科学技术中的重要性与日俱增。薄膜均匀性是衡量薄膜质量和镀膜装置性能的一项重要指标,它在光学、光电等器件的加工工艺中发挥着重要作用。本文介绍了在真空蒸发镀膜中改善薄膜均匀性的方法,着重分析了影响薄膜均匀性的各种因素以及改进措施。针对旋转基片的镀膜室,设计了精确的修正挡板形状,从而改善了膜厚的均匀性。  相似文献   
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基于单模纤锥表面等离子体共振的折射率传感   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用ComingSMF-28(TM)制作了单模纤锥表面等离子体共振传感器,在1384~1614 nm波长范围内,采用波长调制方式对折射率为1.4480~1.4510的甘油水溶液进行了检测,分辨率在3×10-5RIU,这有利于进一步了解单模光纤表面等离子体共振传感器的性能以及在液体折射率检测方面的应用.  相似文献   
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