氩离子注入PET表面沉积Cu膜的界面特性

为了研究Ar离子注入对薄膜沉积的影响,使用2 keV的氩离子对PET进行表面注入,注入剂量为5×1011ions.cm-2,然后用离子溅射镀膜法,在PET表面均匀地沉积一层Cu膜,用台阶仪、俄歇探针、原子力显微镜等对其进行测试分析。结果表明,该合金膜的厚度为490 nm,膜表面平整,无缺陷。对该合金膜进行纳米划痕测试,得到临界载荷为8.5 mN。实验结果证明,Ar离子注入对薄膜性能有提高。     

Fractal Characteristics of Tin Iodide Aggregates Deposited at a Gas-solid Interface

ＦｒａｃｔａｌＣｈａｒａｃｔｅｒｉｓｔｉｃｓｏｆＴｉｎＩｏｄｉｄｅＡｇｇｒｅｇａｔｅｓＤｅｐｏｓｉｔｅｄａｔａＧａｓ┐ｓｏｌｉｄＩｎｔｅｒｆａｃｅ＊ＺｈａｎｇＪｉｚｈｏｎｇ（张济忠）１，２，ＹａｎｇＸｉａｏｄｏｎｇ（杨晓东）１，ＬｉＨｅｎｇｄｅ（李恒...