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干涉型Al-N-O选择性吸收表面的研究 总被引:2,自引:0,他引:2
利用Al-N-O选择性吸收层之间产生的干涉效应,改善吸收表面挑学性能(吸收率α和发射率ε),通过工艺确定了2种不同金属填充因子的双吸收层结构,与多层渐变吸收表面相比双吸收层结构吸收表面具有膜系结构简单、高温下性能稳定、发射率较低等优点,吸收表面的吸收率α为0.93 ̄0.95,发射率ε(353K)为0.04 ̄0.06。 相似文献
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