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用热壁CVD法在Si(lll)衬底上生长GaA薄膜,用扫描电镜(SEM)观察发现在表面上有大量微晶粒,这些晶粒的直径在2-4μm之间。用扫描电镜(SEM)、选区电子衍射(SAED)、X射线衍射谱(XRD)、傅里叶红外透射谱(FTIR)、光致荧光谱(PL)对样品进行了结构、组分及发光特性分析。结果表明:这些微晶粒为GaN六方铅锌矿。 相似文献
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用溅射Ga2O3反应自组装和脉冲激光沉积(PLD)法分别在硅和蓝宝石衬底上制备CaN薄膜,用X射线衍射图谱(XRD)和原子力显微镜(AFM)对GaN薄膜的结构和形貌进行分析,结果表明,采用两种方法在两种衬底上均可制备出结晶较好的CaN薄膜,但硅衬底上制备的GaN薄膜的晶粒明显大于在蓝宝石衬底上制备的GaN薄膜的晶粒,进一步表明硅基溅射Ga2O3反应自组装GaN薄膜晶化程度较高. 相似文献
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