脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层耐磨性的影响

本文采用俄罗斯UVN0．5D21脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备，在高速钢W18Cr4V基材_b_~TiAIN膜层。研究了膜层沉积过程中，脉冲N离子束轰击对TiAIN膜层耐磨性的影响。研究结果表明：N离子束轰击能量为0keV时，磨损初期TiAIN膜层的摩擦系数为0．3；磨损时间为70111in时，膜层的摩擦系数突然增加，膜层全部脱落，部分基材已经被磨损，摩擦系数为0．6。轰击能量为7．5keV时，磨损初期TiAlN膜层的摩擦系数为0．13；磨损时间为150min时，膜层表面没有出现脱落现象，有部分很浅的磨裹，膜层的摩擦系数为0．25。