直流磁控溅射TiNiCu薄膜靶材制备方法研究

通过对直流磁控溅射TiNiCu薄膜的靶材制备方法的研究发现：镶嵌与熔炼两种方法均成功地制备了所设计成分的薄膜,而粉末冶金与在TiNi靶上放置纯Cu片的制备靶材方法虽未能制备出质量良好的薄膜,但本文对其制备靶材方法做了初步的探究,对出现的问题提出了针对性的建议。