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采用松理化学气相沉积（即ＰＣＶＤ）技术，在不同的温度和时间下制备２组ＴｉＮ涂层试样；讨论了温度与时间对涂层性能的影响，并在微观结构分析基础上，讨论了时间和温度等工艺参数与微观结构和性能间的关系 相似文献
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以硬质合金作为衬底，分别采用了化学涂层（ＣＶＤ）和物理化学涂层（ＰＣＶＤ）的技术涂复Ｔｉ（Ｃ，Ｎ）－ＴｉＮ硬质膜，应用Ｘ射线光电子谱分析（ＸＰＳ）技术，研究涂层表面化学成分、元素化学状态、物相组成及其随深度的变化。涂层表面由Ｔｉ，Ｎ，Ｃ，Ｏ和Ｃｏ组成；表面物相包括ＴｉＮ，ＴｉＯ＿ｘ及ＣｏＯ．随着深度的增加，Ｔｉ：Ｎ迅速变为１，而ＴｉＯ＿ｘ和ＣｏＯ含量急剧减少． 相似文献
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