蓝光光盘系统中盘片径向倾斜的跟踪误差特性分析

基于衍射理论，根据标准蓝光光盘参数，计算了聚焦光斑在光盘表面扫描过程中的出瞳光强分布，得到位相移动（Differential Push Pull，DPP）循迹误差信号，并在此基础上分析了盘片径向倾斜角度对循迹误差信号的影响，以及DPP法中放大度数值与循迹信号的倾斜敏感度的关系.结果表明，蓝光光盘系统中，盘片正常读取允许的最大径向倾斜角度为0.39°，且DPP法中放大度数的值仅影响其产生的循迹误差信号的幅值大小，对循迹误差信号的倾斜敏感度无影响.     

碱液刻蚀的多晶硅不同晶面微结构实验研究

多晶硅碱液刻蚀技术一直是多晶硅太阳能电池研究的关键性技术之一.在普通的碱刻蚀液中加入一种添加剂,在温度78~80°C之间刻蚀多晶硅表面20min,用SEM观察多晶体硅表面结构.在多晶硅表面上首次观察到了碱液刻蚀出的密集均匀分布的陷阱坑,只是样品不同晶面上的陷阱坑形貌稍有不同.[100]晶面上主要由纵横交错的致密的小硅山脉构成,小硅山脉之间存在长长的峡谷式的陷阱坑（沟）;[110]晶面上密布大量的畸变三角形陷阱坑或矩形坑（洞）;[111]晶面则分布蚯蚓状的陷阱坑.用积分反射仪测量了样品表面光反射率,在400~900nm波段平均反射率下降到20.5%.实验研究表明：添加剂能调节碱的刻蚀特性,经过添加剂调剂的碱液能在多晶硅表面刻蚀出具有良好陷光效应的绒面,添加剂调节的碱液刻蚀技术是一种有前途的多晶硅制绒技术.     

X射线能量分辨率与多层膜测量反射率的关系

X射线能量分辨率大小对多层膜测量反射率有影响. 理论上分析了入射光能量分辨率与多层膜测量反射率的关系. 研究结果表明: 入射光为非单色光时, 多层膜测量峰值反射率低于单色光的反射率; 但是在非设计波长处, 非单色光的反射率大于单色光反射率; 设计波长越短的X射线多层膜, 其测量反射率对入射光单色性越敏感; 对确定的多层膜, 入射光能量分辨率存在一个极限值, 如果能量分辨率小于极限值, 多层膜测量反射曲线是直线, 没有反射峰出现.     

Co/Sb多层膜非单色反射率的计算

Co/Sb多层膜在光子能量为528 eV和掠入射为10.3°时有近62%理论反射率. 推导出了入射光为非单色光时多层膜反射率的计算方法, 分析了不同入射光能量分辨率对多层膜测量反射率的影响. 结果表明: Co/Sb多层膜测量反射率对入射光能量分辨率有强烈的依赖性, 如果入射光能量分辨率小, 将导致测量反射率远小于理论反射率. 只有在入射光能量分辨率达到1600以上, 测量反射率才等于多层膜实际反射率. 给出了Co/Sb多层膜反射率的拟合值, 这与实验结果是吻合的.     

自治法计算介电张量旋转界面的反射系数

给出了介电张量在两个晶体面之间旋转时该类界面上的光反射模型和一种计算出该类界面反射系数的方法,并计算了入射光在不同偏振度时的界面反射系数．讨论了介电张量旋转角度大小、光偏振方向对该类界面反射系数的影响,给出了该类界面在两个相互垂直方向上的反射系数．对于自然光,当两个平面介电张量之间的旋转角非常小时,界面之间反射系数很小．随着旋转角度增加,反射系数同时增加,但最大折射率和最小折射率方向的反射系数增加程度不同,在一定的角度下能达到极大值．对于线偏振光,当介电张量旋转角度非常小时,其反射系数不受光偏振方向的影响;当旋转角度稍大时,光偏振方向对这两个方向反射系数都有影响,但影响程度不同．