低温等离子体技术

低温等离子体技术是一门已相对成熟和蓬勃发展着的应用学科，它已在传统和高技术领域得到了广泛的应用，优点与工艺机理复杂是应用中的两个方面，本文分以下几个方面对这一技术的特点及其发展进行了介绍，１．引言，２．低温等离子体的产生与分类，３．低温等离子体技术的特点及应用，４．低温等离子体技术及其应用的发展，５．低温等离子体技术的问题。     

X模耦合微波的ECR溅射装置的放电特性

探讨采用真空波导及反常波模式（X模）微波输入技术，以避免微波石英窗口的污染，并研究了这种微波耦合模式装置中等离子体的放电特性．     

微波ECR等离子体高速溅射装置的研制

研制了一台高速率溅射的ＥＣＲ等离子体沉积装置．采用微波真空波导及反常模式或输入技术，利用腔内双靶构成的电场镜，使高能γ电子在电场镜中振荡，从而获得高密度的等离子体．并且，导电膜能连续高速沉积，在２．７×１０－２Ｐａ的低气压下，铜膜的沉积速率可达１２０ｎｍ／ｍｉｎ．