首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   11篇
  免费   0篇
教育与普及   1篇
综合类   10篇
  2024年   1篇
  2023年   1篇
  2015年   1篇
  2014年   1篇
  2013年   1篇
  2009年   1篇
  2008年   1篇
  2007年   2篇
  2003年   1篇
  2000年   1篇
排序方式: 共有11条查询结果,搜索用时 250 毫秒
1.
对接收信号的调制类型进行自动识别,是实现软件无线电的关键技术之一.基于软件无线电信号通用调制模型原理,采用决策理论通过分析信号的特征参数来自动识别信号.  相似文献   
2.
分析当代大学生心理健康所存在的问题,提出高校图书馆发挥自身优势开展心理健康教育的方法与途径。  相似文献   
3.
目的:针对我院护理质量管理中存在问题,提出对策,促进护理质量。方法:从护士的法制法规意识、护士编制、护理管理者素质、护士工作量等方面分析存在问题,提出可行对策并实施。结果:通过存在问题分析,提出对策并持续改进,医院护理质量得到了稳步提高,各项护理质量指标均达标。结论:护理质量管理的科学化有利于护理质量的全面提高。  相似文献   
4.
蔡兴奋  雷红 《科技信息》2013,(14):302-303
本文首先分析了数字调制系统的几种基本调制与解调方法,并运用MATLAB软件对数字调制方式2ASK、2FSK、2PSK进行了编程仿真实现,然后对比了这三种调制方式的频带宽度、抗噪声性能和误码率,进而比较他们的性能。  相似文献   
5.
雷红 《实验室科学》2014,17(5):66-68
基于目前中兽医学教学现状,分析其利弊,推陈出新,介绍中兽医学CAI网络课件的优势以及研制的内容和主要技术。CAI网络课件适用于课堂教学、学生自学、远程教育,CAI网络课件充分展示CAI课件的立体多层次教学优势,内容丰富,具有传统的中兽医学理论和实践知识,同时又具有现代科学知识,并在实践教学中,充分利用信息资源不断更新网络课件内容和展示方式。CAI网络课件互动性强,学习灵活自如,不受时空限制,适应层次广,学习效率高。  相似文献   
6.
通过阴离子诱导辅助生长法制备哑铃形氧化硅磨粒,并对哑铃形氧化硅磨粒进行表征,研究该磨粒对氧化锆陶瓷化学机械抛光(chemical mechanical polishing, CMP)性能的影响.实验结果表明:哑铃形氧化硅磨粒稳定性好、分散性好,具有优异的化学机械抛光性能.与球形氧化硅磨粒相比,用哑铃形氧化硅磨粒对氧化锆陶瓷抛光时,材料去除率提高39%,抛光后陶瓷表面平整光滑,表面粗糙度为1.960 nm.这是因为哑铃形氧化硅磨粒抛光液润湿性好,可以与氧化锆陶瓷表面充分接触,有利于固相化学反应的发生.此外,哑铃形氧化硅磨粒的摩擦系数更大,这使得机械效应显著增强.  相似文献   
7.
为了提高氧化锆陶瓷的抛光效率,在二氧化硅表面掺杂Y3+得到改性磨料. X射线光电子能谱(X-ray photoelectron spectroscopy, XPS)分析表明, Y元素以Y(OH)3的形式存在于改性磨料中.扫描电子显微镜(scanning electron microscope, SEM)和粒度分析结果表明,复合磨料呈球形,粒度均匀,无聚集体和2次颗粒出现.与纯胶体二氧化硅磨料相比,材料去除率(material removal rate, MRR)提高了33%左右. MRR增大的原因是掺杂的Y(OH)3改变了二氧化硅颗粒的Zeta电位,减小了二氧化硅颗粒与氧化锆陶瓷之间的排斥力,增大了二氧化硅颗粒和氧化锆陶瓷基体之间的接触概率,导致摩擦系数增大.  相似文献   
8.
化学机械抛光技术的研究进展   总被引:23,自引:0,他引:23  
化学机械抛光(chemical mechanical polishing,简称CMP)技术几乎是迄今惟一的可以提供全局平面化的表面精加工技术,可广泛用于集成电路芯片、计算机硬磁盘、微型机械系统(MEMS)、光学玻璃等表面的平整化.该文综述了CMP技术的研究现状,指出了CMP急待解决的技术和理论问题,并对其发展方向进行了展望.  相似文献   
9.
本文介绍了线性规划在企业管理中的应用范围及其实现方法。  相似文献   
10.
介绍了自组织神经网络算法,探讨了对大量地理空间数据进行模式提取和关系建立的有效计算算法,在此基础上对于所获取的信息实现可视化表示。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号