氢与硅表面的新键合方式

美国贝尔实验室的一个研究组,对氢在硅表面形成的令人费解的表面态从理论上作了解释。了解硅和锗这些半导体的表面行为的细节,对半导体工业来说,是很有意义的。而且,弄清表面特性有助于了解催化作用和腐蚀作用等。新的表面电子能谱测试技术和原子级表面理论计算相结合,为研究表面特性提供了有力手段。