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同步辐射辐照下Mo/Si,Pd/Si多层膜的稳定性   总被引：1，自引：0，他引：1  
伍历文 《科学通报》1995,40(8):761-761
随着众多同步辐射装置的建成和完善,软X射线光学得到迅速发展.由于同步辐射能量密度较高,可能使光束线上的插入元件温升很高.因为辐照对化学反应有促进作用,故此在同步辐射辐照下,作为反射、色散元件的人工周期性多层膜的稳定性是一个值得研究的问  相似文献   
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