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ＸＨ－ＲＥＰ－２正性电子束抗蚀剂的工艺研究王国荃，罗腾蛟，王琴美，吴月莉（中国科学院上海冶金研究所）关键词：电子束曝光，等离子体去渣．０引言普通光学的曝光分辨率受到光波衍射效应的限制，难以制作１μｍ以下的图形；当ＰＧ图形分割的矩形数超过２０万，普通光...  相似文献   
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