再谈一种新的偏态分布下心理状态数的估计

心理状态数是反映人们日常生产活动中心理状态对他们的行为和结果影响的重要指标.董云河和宋述龙最早假定心理状态对结果影响的偏态分布为N(0,σ2,c).随后,宋立新给出一种新的偏态分布.该文指出了这种新偏态分布的局限性,并在此基础上提出一种更广泛的偏态分布,并得到了其矩估计和极大似然估计.通过统计模拟研究,比较已得到的2种估计与已有估计的偏差与均方误差,得出了极大似然估计具有较强的稳健性的结论.     

不同对称性条件下光子晶体局域态的演化

光子晶体不仅可以用来调控自发辐射,还可以用来控制光的传输和局域.研究采用平面波展开法进行模拟计算.首先改变光子晶体H1缺陷及其附近介质柱的半径,使得光子晶格缺陷处超晶胞的旋转对称性具有C6v,C3v或C2v等点群的性质;然后分析二维圆形介质柱三角光子晶体的局域态在光子禁带中演化.计算结果表明：随着介质柱的半径的变化,光子晶体局域态会发生变化,其演化表现出阶段性;同时随着对称性破缺程度的加深,会有更多缺陷态进入光子禁带.计算选择硅（Si）作为介质柱材料,主要为硅基光子晶体激光器的选模提供理论参考.     

硅量子点表面掺氮的电子结构计算

本文在量子点表面掺入氮原子,用第一性原理方法模拟计算硅量子点（111）面上的电子结构.本文主要解决两个问题：（1）比较研究六种不同大小的量子点结构掺杂和未掺杂氮原子情况下的带隙宽度和电子态密度变化;（2）分别用广义梯度近似（GGA）和局域密度近似（LDA）两种不同的算法计算六种量子点结构的带隙宽度和态密度,并比较GGA和LDA算法的特点.计算结果发现：带隙随着量子点的尺度变小而展宽,这符合量子受限规律;在量子点表面掺杂氮原子会减小带隙宽度;重要的是发现LDA算法对局域态更加敏感.     

表面状态对核级316LN不锈钢电化学腐蚀行为的影响

表征了打磨态和机械抛光态316LN不锈钢表面的粗糙度、表面残余应变和表面电子功函数的分布,并研究了打磨态和机械抛光态样品在硼酸盐溶液中电化学腐蚀行为的差异.与机械抛光态316LN不锈钢相比,打磨处理后样品表面较为粗糙,且表面的微观残余应变较大,近表面产生约50 μm的加工硬化层.表面粗糙度和微观应变的增加引起打磨态表面电化学活性的增大,从而促进316LN不锈钢在硼酸盐溶液中腐蚀.机械抛光处理降低了表面钝化膜的载流子密度(供体和受体),并增大了钝化膜的阻抗,提高了钝化膜的致密性和保护性,能够有效抑制金属的进一步腐蚀.     

范德瓦尔斯气体的各种准静态过程

应用热力学第一定律对范围德瓦尔斯气体在各种准静态过程中所做的功,吸收或放出的热量以及内能的变化进行讨论,得出各冷静态过程中功、热量和内能的求解表达式,并与理想气体进行比较。     

白噪声激励Van der Pol振子的精确平稳解

本文根据Ｈａｍｉｌｔｏｎ系统理论,基于ＦＰＫ方程,导出白噪声激励ＶａｎｄｅｒＰｏｌ振子的一类精确平稳概率密度及其相应的统计量。并在线性退化情况下,通过代数Ｌｙａｐｕｎｏｖ方程确定的精确结果所验证。     

ESO抑制扰动特性的研究

本文给出了自抗扰控制技术用于滤波的研究结果,提供了一些仿真实例。结果表明,这种新型的控制技术对高频噪声具有较好的滤波特性。     

中低Z元素等离子体平均电离度和辐射不透明度的近似计算

在物质处于局域热力学平衡(LTE)的条件下,采用R.M.More提出的改进型平均原子模型和类氢离子的光吸收系数,计算了中低Z元素等离子体的平均电离度及辐射不透明度.将计算结果与SESAME数据库数据和实验数据比较,符合得较好.为便于在辐射磁流体力学计算中的应用,在0.5×106K≤Te≤200×106K的温度范围、10-5(g/cm3)≤ρ≤1(g/cm3)的密度范围对计算结果进行数据拟合,得到了平均电离度和辐射不透明度随温度和密度变化的拟合函数.通过对辐射不透明度采用分温度段拟合,发现拟合值更接近于计算值.     

范德瓦尔斯气体热力学过程的分析

在各种热学教材中都介绍了运用热力学定律计算各种理想气体热力学过程的方法,但是对于实际气体,如范德瓦尔斯气体却没有给出详细的讨论.推导了范德瓦尔斯气体的内能及其常见热力学过程和一般过程p=-KV+a的热容量,并对其进行讨论,进一步了解实际气体的性质.     

赫巴流体在圆管中流动状态的转变

用稳定性参数Y研究了赫巴流体在圆管中的流动状态,得到了确定其流动状态的判据,通过理论分析以及实验资料,对比其他2种流态判别准则计算结果表明,稳定性参数Y具有较好的适应性和准确性。