用薄板弯曲理论求解门架立柱翼缘局部弯曲问题

本文以薄板弯曲理论为基础,提出了解决由滚轮引起的叉车门架立柱翼缘局部弯曲问题的方法,在IBM PC/AT机上编制了相应的程序。对翼缘局部弯曲弯距的计算,分布状况,以及影响因素和范围进行了理论分析,并给出了在单位力作用下翼缘局部弯曲弯矩的图表。     

退火条件对氧化钒薄膜微观结构的影响

采用直流对向靶磁控溅射的方法在SiO2／Si衬底上制备了具有（001）择优取向的V2O5薄膜，利用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜和四探针测试方法对退火前后薄膜的表面形貌、物相组分和电阻温度系数进行了测量．结果表明：200℃衬底温度下溅射得到的薄膜为多晶V2O5，膜表面颗粒呈细长针状，经700℃、1h退火后，薄膜中VO2相成分增多，颗粒变为长方形柱状；退火后薄膜的电阻温度系数达到-3.2％／K，与薄膜的微结构和物相组分有很大关系：3h退火后．得到高纯度的V2O5薄膜．     

钢筋混凝土板震塌碎片特性试验

为研究钢筋混凝土板震塌碎片速度、质量和毁伤特性,对三种厚度靶板开展了14炮次爆炸试验,通过图像捕捉法获取了碎片初始速度,依据量纲分析,建立了速度与震塌系数的定量关系.对试验结果统计分析发现,有限厚度板(≤300 mm)无论发生何种破坏类型(震塌、贯穿、冲切),产生的单个碎片质量均以60 g以下为主,其中30 g以下碎片主要为单粒石子,30 ～ 60 g碎片以砂石胶结体为主,且震塌系数越小,单粒碎片尺度越小、质量越小.对等效模拟物的毁伤状态分析表明,混凝土类单粒碎片无法对25 mm厚松木板形成有效贯穿,松木板的损伤主要表现为冲击伤,板表面呈现较多冲击压痕.由于碎片自身强度有限,部分碎片对目标撞击过程中易出现碎裂或者粉碎,从而导致无法继续侵入.虽然单粒碎片无法侵入松木板,但其数量较多、单位面积上密度较大,易对人员造成大面积表皮伤.碎片束(碎片云)对目标物的持续冲击时间可达200～500 ms,可使目标产生损伤累积,最终导致目标物严重损毁或者人员伤亡.     

电沉积NiHCF薄膜的离子选择性研究

采用电沉积方法在铂、铝基体上制备出具有电化学控制离子交换（ESIX）性能的电活性NiHCF（Nickel Hexacyanoferrate）薄膜，在1mol／L（NaNO3＋CsNO3）和1mol／L（KNO3＋CsNO3）混合溶液中分别测定了不同Cs^＋浓度下薄膜的伏安特性曲线和电化学交流阻抗谱，并根据CV曲线和EIS曲线的变化特征分析了薄膜对Cs^＋／K^＋和Cs^＋／Na^＋离子的选择性。结果表明，交流阻抗技术与循环伏安法相结合可较好地用来表征混合溶液中离子膜的选择性。     

低碳钢的高温力学性能

利用Gleeble 1500热模拟实验机,采用加热法和凝固法两种加热变形制度,研究了实验用低碳钢的热塑性及强度,测定了该钢种的零塑性温度(ZDT)θd及零强度温度(ZST)θs,分析了其裂纹敏感性及断口组织·结果表明,凝固法所测结果更符合实际;实验钢的高温脆性温度范围为1300℃至熔点,在1100～1300℃范围内,此钢的断面收缩率均大于60%,具有良好的塑性·实验用低碳钢的高温脆性区较小,具有较强的抗高温裂纹特性·其θd和θs分别为1350℃和1400℃·     

Synthesis and characterization of cerium sulfide thin film

Cerium sulfide(Cex Sy)polycrystalline thin film is coated with chemical bath deposition on substrates(commercial glass).Transmittance,absorption,optical band gap and refractive index are examined by using UV/VIS.Spectrum.The hexagonal form is observed in the structural properties in XRD.The structural and optical properties of cerium sulfide thin films are analyzed at different p H.SEM and EDX analyses are made for surface analysis and elemental ratio in films.It is observed that some properties of films changed with different p H values.In this study,the focus is on the observed changes in the properties of films.The p H values were scanned at 6–10.The optical band gap changed with p H between 3.40 to 3.60 e V.In addition,the film thickness changed with p H at 411 nm to 880 nm.     

超薄氩膜热传导的分子动力学模拟

采用基于经典理论的平衡态分子动力学(EMD))方法，在无量子化修正的条件下，计算了固态氩(Ar)在低于其Debye温度(92K)下的导热系数．温度在20K以上时，模拟结果和实验值吻合较好，说明固态Ar的量子化效应对其热传导性能影响不大，温度低于20K时，由于模拟区域对长波声子的裁剪作用使得模拟结果比实验值低．在此基础上，使用经典分子动力学基于三向、两向周期性边界条件的各向异性非平衡态薄膜模型，模拟了超薄Ar膜在40K的导热系数，2种模型给出了具有相同变化趋势的薄膜热传导特性曲线，即：随着膜厚的增加，导热系数增大，且模拟结果同模拟区域横截面大小无关．在相同条件下，2种模型得到的氩膜导热系数相差10％左右．     

纳米硅簿膜制备工艺的研究

采用等离子体增强化学气相淀积（ＰＥＣＶＤ）技术，在超高真空系统中，使用大量氢稀释的硅烷作为反应气体，利用Ｒ．Ｆ．＋Ｄ．Ｃ．双重功率源激励，通过低温下硅在氢等离子体放电中的化学输运直接淀积纳米硅薄膜。根据对薄膜样品结构的测定及其制各工艺条件，分析讨论了各工艺参数对淀积后薄膜的影响，从而使纳米硅簿膜的制备工艺趋于完善。     

退火温度对溅射氧化锌薄膜的影响

利用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了高度C轴择优取向的纳米氧化锌(ZnO)薄膜,采用扫描电子显微镜和X射线衍射仪研究了退火热处理温度对ZnO薄膜形貌、结构和内应力的影响规律.结果表明:热处理可以明显改善薄膜的结晶质量,薄膜的晶粒变得致密,尺寸也变得均匀;(002)衍射面的晶面间距和内应力均低于未经热处理的样品;当温度高于450℃以后,薄膜的致密度反而下降,部分晶粒异常长大,随着退火温度的逐渐升高,ZnO薄膜(002)衍射面的晶面间距和内应力先减小,到450℃达到最小值,后又逐渐增大,可见450℃热处理后,薄膜的表面形貌、结构和内应力均得到很大的改善.     

带有电荷、磁荷的一类任意加速黑洞的熵

对带有电荷、磁荷的任意加速黑洞,得到它的局部视界面方程. 由于这种黑洞是动态和非轴对称的,它的熵很难计算.引进一个新的坐标系,使得其中的00在视界面上正好是零.在此新坐标系下利用膜模型计算了该黑洞的熵. 计算结果表明:和稳态黑洞一样,动态黑洞的熵也是正比于它的视界面积.