纳米光电材料研究简介

综述了光电材料的研究现状和应用前景，介绍了光电材料的分类和光电转化原理，并且着重阐述了纳米光电材料的性质特点、制备方法以及表面修饰。最后，对其表征方法做了简要介绍。     

有机铵表面修饰型针铁矿萃淋材料萃CrO_4~（2－）研究

利用不同取代基有机按的正电性，对控制等电点条件下合成的针铁矿电负性表面进行修饰负载。采用红外光谱，热分析与扫描电镜研究材料的一些基本物性；考查了材料在以铬酸根为代表的二价阴离子萃取体系中有机铵不同取代基和体系中酸碱性对萃取性能的影响规律及其解释，萃取过程动力学因素。该萃淋材料对ＣｒＯ单级提取率大于百分之九十，萃取速度快，半萃取率所需时间仅１分钟左右。     

CsI/Ni薄膜系统的化学深度剖面分布

利用XPS研究了CsI/Ni薄膜系统的深度剖面分布,研究结果指出:CsI膜在20～200℃的温度范围内是热稳定的,而且CsI膜厚度随烘烤温度增加而增加。由于Ni扩散至CsI层内,CsI/Ni紫外光电阴极长波阈向长波延伸。     

Research on Ultrasonic NDT System for Complex Surface Parts

Aimed at inner quality controlling for complex surface parts, an ultrasonic testing system for complex surface parts has been developed using ultrasonic NDT(Non-destructive Testing)which has features of strong penetration, well direction, high sensitivity, low cost, and harmless to people and material. The technologies of the computer, NC (Numerical control), precision mechanism, signal analysis and processing were integrated in the testing system. The system includes a PC, system software, ultrasonic data ...     

四氟化碳摩尔气化热的理论推算及其气化形成机理研究

运用表面化学基本原理，通过建立气化相变模型，对四氟化碳的摩尔气化热进行了理论推算，所得结果与献实验值基本吻合。并就类似结构化合物用同样的模型对其摩尔气化热也进行了推算，结果与献实验值基本吻合。将表面化学原理运用于分子水平。把体系的宏观物理量与微观物理量联系起来了，并且得到了一些有意义的结论。     

对金属切削毛刺的试验分析

讨论了在切削加工中塑流层的形成及切削毛刺的生成机理，在采用直角自由刨削加工方式中。结合前角γ０、进给量ｆ及切削速度ν等因素的变化，通过试验的方法对毛刺的影响进行了探讨。     

准粒子剩余相互作用与旋转角频率的关系

用粒子数守恒方法（ＰＮＣ）来分析原子核在推转壳模型情况下，由阻塞效应而引起的准粒子剩余相互作用．计算结果表明，这种剩余相互作用除与费米面附近单粒子能级的分布，阻塞能级的位置有关外，还与旋转频率（ω）密切相关．在特定情形下，这种剩余相互作用的排斥性可转变为吸引性．     

荧光黄／酞菁超薄薄膜的电致发光特性

用荧光黄作发光层，以酞菁铜作空穴传输层，构成了三种结构类型的电致发光器件：ＩＴＯ（铟－锡氧化物）／荧光黄／铝，ＩＴＯ／酞菁酮（蒸涂膜）／荧光黄／铝及ＩＴＯ／酞菁酮（ＬＢ膜）荧光黄／铝。比较了酞菁铜蒸涂膜及其Ｌａｎｇｍｕｉｒ－Ｂｌｏｄｇｅｔｔ（ＬＢ）膜的电传输特点，并对器件的电光特性进行了讨论。