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991.
本文用统计力学的方法处理吸附在固体基质表面上的玻色子薄膜系统,证明对弱相互作用基质,未饱和蒸汽压p与相变温度T的关系与基质种类无关。同时证明相变温度T与薄膜厚度a的关系与基质有关,所得结论与液氦薄膜超流动性的实验结果相符合。  相似文献   
992.
研究经扩散或离子注入掺B、P、As的硅表面上形成自对准CoSi_2薄膜接触和pn结技术.采用离子束溅射Co膜和Co/Si快速热处理(RTP)固相反应形成CoSi_2薄膜.在掺杂Si上形成CoSi_2薄膜以后,薄层电阻可下降一个数量级.对AS离子注入样品中,研究了不同硅片热处理工艺对As在Co/Si反应过程中再分布的影响.实验结果表明,对于CoSi_2形成之前杂质先经激活退火的硅样品,As在Co/Si固相反应过程中发生显著的“雪犁”效应,而在CoSi_2形成之前未经激活退火的样品,在杂质激活和Co/Si固相反应共退火过程中,As的行为则有明显不同.扩展电阻和电学测试表明,用这两种不同热处理工艺,在CoSi_2/Si界面处均可获得较高的载流子浓度,形成的CoSi_2接触pn结具有良好的二极管I-V特性,其反向漏电流明显小于对比实验的Al/Si接触pn结.  相似文献   
993.
用RBS技术、椭偏法和微量天平称重法测量了掺氟SnO_2(FTO)透明导电膜、掺铁ZnSe磁性半导体膜和Fe_2O_3气敏元件膜的薄膜厚度.实验结果表明,RBS技术的测量数值与椭偏法以及微量天平称重法测得的结果符合得较好。  相似文献   
994.
采用水热法技术于250℃条件下直接在金属钛片上制备了钙钛矿结构的SrTiO3晶态薄膜,讨论了温度对薄膜形成的影响.采用X射线衍射(XRD)分析了薄膜的晶相;扫描电镜(SEM)研究了薄膜的表面形貌;X射线光电子能谱(XPS)分析了薄膜的成分与价态.结果表明水热反应温度是影响薄膜结晶的重要条件.  相似文献   
995.
碳化硅薄膜生长技术的研究进展   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了国际上近年来碳化硅薄膜的研究情况,碳化硅外延生长大多采用溅射法(sputting)、化学气相淀积(CVD)和分子束外延(MBE).对生长工艺对碳化硅薄膜特性的影响进行了对比研究.  相似文献   
996.
通过对轧机油膜轴承锥套载荷分布的模拟实验研究, 给出了轧机油膜轴承锥套载荷测试的新方法.为精轧机提高轴承寿命的研究工作提供了可靠的实验手段与试验数据, 实验结果对大型轧机油膜轴承锥套损伤机理研究具有重要参考价值.  相似文献   
997.
氧化铝陶瓷/金刚石膜复合材料的表征及介电性质研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
采用MPCVD和HFCVD在氧化铝陶瓷基片上沉积金刚石薄膜,用抛电镜,X躬一衍射和Raman散射分析表征了沉积膜的质量,并测这和分析了氧化铝/铝金刚石膜复合材料的介电性质。  相似文献   
998.
利用飞秒瞬态反射谱和透射谱,研究了GaAs薄膜的瞬态光致折射率变化,观察到光致折射率的一个超快弛豫过程和一定激发浓度下的瞬态光致吸收增加现象,用受激载流子引起的带填充和能隙收缩解释了这些现象。  相似文献   
999.
原子团的形成和状态是研究离化原子团淀积(ICBD)机理的首要问题。作者采用一种新的测量方法研究了Te在不同蒸发温度下形成的原子团的平均尺寸和尺寸分布。对朗加热温度从650K增大到790K时,Te平均原子团尺寸从10个原子增大到75个原子。离化电压大于250V时,原子团经过高化区,部分碎裂成小原子团或原子。  相似文献   
1000.
研究了几种含MoS2、石墨的固体润滑膜的防爬性能及不同载荷、速度对爬行的影响,从本质上讨论了产生爬行的原因。结果表明,固体润滑膜的防爬性能优于钢、铸铁。并且指出,静、动摩擦系数差值Δμ越小,其防爬能力越好,静摩擦系数小,出现爬行的倾向也小。  相似文献   
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