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101.
针对自行研发的基于窗口调制和比色测温技术的热喷涂粒子参数测量系统,从理论上分析了瞄准距离变化对脉冲信号半高宽的影响,提出了光学杠杆关系和信号特征变化两种共同起作用的影响机制,并指出两种机制在小于理想瞄准距离时对半高宽的影响相反,而在大于理想瞄准距离时的影响则因相同而叠加,使得脉冲信号半高宽随瞄准距离的变化呈现不对称U形变化规律.实测脉冲平均半高宽的变化趋势与上述规律吻合良好,根据文中提出的校正系数修正后,在非标准瞄准距离下测得的粒子平均速度的误差明显下降. 相似文献
102.
设计出一台只用一块非线性晶体就能够测量宽波长范围的飞秒激光脉冲脉宽的单次脉冲自相关仪,适用于测量由光参量产生获得的可调谐飞秒激光脉冲的脉宽. 相似文献
103.
为了解决在生产过程中实时在线自动检测的问题,克服现有测量手段没有温度补偿的缺点,提出了一种用于糖浓度高精度检测的光学测量方法。以H e-N e激光器作为光源,利用一个具有倾斜界面的参考水槽和正三棱镜的测量装置,以位置敏感器件(PSD)为光信号的探测器,实现了光学和电学的双差动测量。糖浓度的变化引起光线的偏移,光线偏移量被PSD接收后由电路处理。进行了实验测试和仿真分析。结果表明,在较大的糖浓度测量范围内(0~35%),得到了±0.1%的测量重复性和1-0 5数量级的测量分辨率,而且具有结构简单、成本低、使用方便等特点。 相似文献
104.
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响 总被引:2,自引:4,他引:2
利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10min)的样品,样品在400℃的大气中进行1h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用Van der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好. 相似文献
105.
在光学自由曲面的成形抛光加工当中,加工去除的稳定性对工件加工质量具有重要的影响,而抛光液的更新是保证去除稳定的关键。该文提出了一种具有公自转运动形式的可更新磁流变抛光工具,能够完成磁流变抛光液内部磁链的重组更新,使得加工去除稳定。针对此抛光工具,使用刚体润滑理论获得理论去除轮廓,通过实验获得其在单自转状态下的去除轮廓,与理论分析吻合。峰值去除量时间的实验表明,该抛光头的去除效果受时间的影响很小,抛光去除稳定。 相似文献
106.
将硬边光阑门数函展开成复高斯函数,利用高斯光阑的ABCD矩阵形式,应用于厄米-高斯(H-G)光束,推导出了H-G光束通过内含硬边光阑的近轴ABCD光学系统的场分布的近解析传输公式,并与Collins公式计算结果比较,说明所得的解析结果的应用和优点. 相似文献
107.
简要阐述光电位置敏感器件的特点、工作原理,根据光电位置敏感器件的原理和光电位置方程,分析了背景光与测量精度的关系.在此基础上,采用分布图像的峰值检波器来模拟预处理光电信号,通过数字转换得到图像的重心位置;采用集中平行的模拟计算估算射到感光区的光分布的重心,并通过时钟比较器得到数字化图像.给出了检测位置的二维光传感器阵列、显示与图像数量的平方根成正比功耗关系式以及几个重要结论. 相似文献
108.
介绍了一种在石英晶体里面运用调Q纳秒级Nd:YAG激光器进行等离子体诱导加工制作微米通道的新方法,利用光镊技术在微米通道中成功实现细胞的操纵。对微米通道管壁厚度因素对光镊俘获的影响进行了分析和研究,基于此研究可以在生物医学领域找到新的运用。 相似文献
109.
应用时域相位解包方法的三维形貌测量系统 总被引:1,自引:0,他引:1
为了解决投影法三维形貌测量中测量点误差受相邻点影响的问题,投射计算机按照所需频率和相位生成的正弦条纹,利用时域相位解包算法实现每个测量点的独立计算。为了降低测量复杂形貌时因栅距变化产生的误差,发展了虚参考平面法。列举了在真人头面部和鼠标测量中的应用。实验结果表明,在进行复杂形貌三维测量时,采用时域相位解包方法可以抑制误差的扩散,不受不连续区域的影响。整个测量过程可在5s之内完成,测量平面时精度可达0.78%。 相似文献
110.
最小费用半光路问题是指在给定的全光WDM网络条件下,在源节点和目的节点之间找一条费用最小的半光路由.与一般的最小路问题不同的是网络在节点上还有与链路相关的费用函数,对Chlamtac等人的SPAWG算法,给出了一种修正的SPAWG算法。 相似文献