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101.
任振华 《山东科技大学学报(自然科学版)》1989,(1)
本文讨论了LM—150型闪光对焊机的自控系统。通过试验得到了预期的效果。文中给出了设计思想,操作原理和电路分析。 相似文献
102.
为了用计算机模拟电化学方法制备多孔硅的过程,基于Monte Carlo和扩散限制模型(DLA)建立一种新模型,引入耗尽区范围、腐蚀半径和腐蚀几率等参数,用Matlab来实现.模拟得到了电流密度、HF酸浓度、腐蚀时间以及硅片掺杂浓度等实验条件对多孔硅孔隙率的影响趋势,与实验结果一致,模拟出的孔隙率值也与实验值接近.因此所建立的模型可以用来模拟电化学法制备多孔硅的过程. 相似文献
103.
利用光声技术对激光气相沉积的纳米硅进行了红外光声光谱的研究,考察了红外光声谱随退火处理和外加压力的变化行为,给出了纳米硅红外吸收峰的指认和解释,讨论了固态效应对吸收峰位置的影响。 相似文献
104.
李奇祥 《广西大学学报(自然科学版)》1991,16(4):61-66
以碳化硅冶炼电阻炉供电短网为例,论述了水冷却低压大电流短网设计中短网的结构形式、排列方法、导体材料及其型式规格的选择。并着重对影响短网安全和经济性最大的传热性能和感抗进行计算。实践表明设计计算与实测结果十分接近. 相似文献
105.
106.
107.
108.
新鲜多孔硅(001)表面结构与电子特性理论研究 总被引:1,自引:1,他引:0
在周期边界条件下的k空间中,采用基于密度泛函理论的广义梯度近似(GGA)平面波超软赝势法,建立H12S i31几何模型来对表面主要被H覆盖的新鲜多孔硅(Porous S ilicon,PS)(001)表面最外层的S i—H键的几何结构和电子特性进行初步的理论研究.计算得到氢化PS(001)表面几何结构S i—H键长为0.148 nm、H—S i—H键角为106°,并通过原子布居数、电子密度图分析得到氢化PS表面原子的电子特性. 相似文献
109.
以SiCl_4和H_2为源气体、采用等离子体增强化学气相沉积(PECVD)技术在不同放电功率下沉积微晶硅薄膜,通过调节放电功率实现了微晶硅薄膜的晶化调控和光电性质的优化,并利用Langmuir探针和质谱计分别对等离子体空间的电子特性和中性基团进行在线检测,初步探讨了成膜的微观机理. 相似文献
110.
采用电熔镁砂和电熔尖晶石为主要原料,以葡萄糖和水合硫酸铝为复合结合剂,以金属铝粉和单质硅为添加剂,制备方镁石-铝镁尖晶石质免烧耐火材料,研究了不同热处理温度下铝加入量及硅铝复合添加对耐火材料显微结构、烧结性能及力学性能的影响。结果表明,随着铝粉加入量的增加,方镁石-铝镁尖晶石免烧耐火材料经不同温度处理后的线膨胀率、常温抗折强度和常温耐压强度增加,并且高温抗折强度也不断提高;另外,金属铝和单质硅的添加会引起耐火材料在升温过程中的增重并减少材料的体积膨胀,从而进一步提高材料的常温力学性能。 相似文献