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21.
发展沈阳会展业的思路与对策   总被引:5,自引:0,他引:5  
从沈阳会展业的发展现状出发,论述了沈阳会展业发展的思路与对策,阐述了会展业对振兴东北老工业基地及在振兴沈阳经济中的作用,使之逐步成为沈阳经济发展的新的增长点。  相似文献   
22.
以0.1mol·dm-3的Zn(NO3)2水溶液为电解质溶液,以99.9%Zn片作阳极,采用方波脉冲电流法在氧化锡铟(ITO)导电玻璃基底上阴极电沉积,得到了透明的ZnO薄膜.采用X射线衍射分析、扫描电镜和荧光光谱技术,测试了薄膜的结构、表面形貌和光学特性.用同样方法在多孔硅衬底上电沉积ZnO薄膜,经过1000℃氧气氛下热处理1h,在紫外光照射下可发射强绿色荧光.  相似文献   
23.
生物浸出中容易产生铁矾而影响目的矿物的浸出速度。文中就这一问题,围绕与Fe^3 有关的各种因素进行了详细分析,旨在充分发挥Fe^3 离子的氧化作用,又尽量减少其产生的负面影响。分析表明,在驯化适应低酸条件下浸矿细菌的基础上,合理调配酸性介质pH值、铁浓度、细菌氧化活性、氧化还原电位Ek值之间的关系,能使铁产生的沉淀降到最小化。  相似文献   
24.
二阶三点数值微分公式的外推算法   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用Taylor公式,给出了二阶三点数值微分公式在各点的截断误差的渐近展开式,并利用Richardson外推算法,提高二阶三点数值微分公式的收敛阶数,得到高精度的二阶数值微分公式.  相似文献   
25.
TiO2薄膜光催化降解二氯乙酸和三氯乙酸水溶液   总被引:1,自引:0,他引:1  
用常压化学气相沉积法镀TiO2薄膜,以紫外灯为光源,对二氯乙酸和三氯乙酸溶液进行光催化降解,并证实了此过程符合一级反应动力学方程。结果表明:卤代度以及不同的半导体化合物底物均对二氯乙酸和三氯乙酸溶液的降解有影响,卤代度低的二氯乙酸比卤代度高的三氯乙酸降解效果要好;同样条件下半导体的带隙能越低,降解效果越好。  相似文献   
26.
超声波法合成三烷基硼及其裂解制备碳化硼   总被引:2,自引:0,他引:2  
在超声波作用下采用一步合成法分别制备三乙基硼、三丙基硼和三丁基硼;考察超声波作用对合成产物产率的影响,用红外光谱及元素分析表征合成产物的结构;以合成的三乙基硼、三丙基硼和三丁基硼为原料通过热裂解制备纯度较高的碳化硼超硬材料;讨论不同原料和裂解温度对合成产物中C含量的影响.研究结果表明:以三乙基硼为原料在温度为1 400K进行裂解时,其裂解产物中B4C,B2O3和裂解自由碳的含量分别为94.0%,2.2%和3.8%.  相似文献   
27.
在许多应用领域常出现带有小参数和不连续源项的反应一扩散问题.这类问题在边界层和内部层附近都出现剧烈振荡现象,解析解根本无法求出.因此人们常采用关于摄动参数为一致收敛的数值方法.本介绍了多过渡点方法,此方法根据边界层和内部层的特点,选择合适的过渡点.在内部层和边界层附近加细了网格点。它很好地拟合了边界层和内部层的性质.证明了新的格式关于小参数一阶一致收敛.提高了Shishkin网格法(单过渡点法)的收敛阶.  相似文献   
28.
采用经验紧束缚近似方法模拟重构硅(100)表面单个双聚体空位(SDV)附近的单个硅原子的沉积行为,根据绘制的SDV附近附加能量差异的三维及投影图,确定了沉积束缚点和一些鞍点,并研究其可能的扩散路径。  相似文献   
29.
利用斑点试验、点蚀试验、电化学测试及扫描电镜等方法 ,研究了熔敷温度、保温时间和稀土添加量等工艺参数对热熔敷法制备的玻璃涂层耐蚀性的影响 ,探讨了添加稀土提高玻璃涂层耐蚀性的机理。试验结果表明 ,采用热熔敷法制备的玻璃涂层有较好的耐蚀性。随着熔敷温度的提高和保温时间的延长 ,形成了一定量的晶相后会降低涂层的耐蚀性。试验结果表明 ,熔敷温度为 70 0℃、保温 5min后能够得到耐蚀性良好的玻璃涂层。添加稀土提高了釉料的软化温度和熔融釉料的粘度 ,阻止了结晶形核和晶核长大 ,减少了晶相 ,同时提高了涂层的电极电位 ,使涂层耐蚀性显著提高。当稀土含量为 2 %时 ,涂层的耐蚀性较好。  相似文献   
30.
The key to mass customizing effectively is postponingthe deco upling point of customer order in the supplynetwork. This paper focused on quantitative analysison postponement strategies of multiple decouplingpoints in mass customization to improve operating  相似文献   
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