微粒光散射图像获取方法的改进

测量微粒粒度分布时,其光散射强度空间谱的准确获取以及其数值处理是决定测量精度的关键,研究表明,常用的二极管环靶空间分辨率低,且在宽信号响应域内响应为非线性,而单色线阵图像传感器BW－CCD对大信号响应时会产生响应饱和,从而直接影响测量精度,对此,该文提出一种以真彩面阵图像传感器3C－CCD作传感器获取图像,对大信号单色响应饱和区进行RGB三色均衡拟合,有效地解决了大信号饱和问题,通过图像的数值处理,最终取得较好的实验结果。     

长江口北槽口外细颗粒悬沙沉降速度

提供了一种计算长江口外细颗粒悬沙沉降速度的方法,利用流速仪和声学悬浮泥沙观测系统,获得了长江口北槽口外大潮水流、悬沙浓度垂线分布资料,采用落憩时刻的悬沙浓度７条垂线分布资料,通过Ｒｏｕｓｅ公式拟合,计算了与悬沙浓度垂线分布曲线相对应的细颗粒悬沙沉降速度,计算结果相对集中于３．０－４．０ｍｍ／ｓ。     

制备工艺对ATO超细粉体导电性能的影响

采用化学共沉淀法制备锑掺杂二氧化锡（ATO）超细导电粉体,研究了反应温度,滴定终点pH值,掺锑量及锻炼温度对粉体导电性的影响,并对实验结果进行了讨论。     

超细珍珠粉制备工艺

介绍如何用气流粉碎机制备超细珍珠粉,以及气流粉碎机的参数对产品粒度的影响,并讨论了粉碎的能耗,提出了如何提高气流粉碎的能量利用率。     

测井精细解释在碳酸盐岩气藏储量计算中的应用

随着成象测井、核磁共振测井等新一代测井技术的飞速发展,测井精细解释技术在碳酸盐岩气藏储量计算中所起的作用越来越重要。结合四川地区的探井测井解释的情况,探讨了测井精细解释的主要工作内容及根据探井精细解释确定储量参数、RFT地层测试技术确定气水界面和测井地震有机结合进行储层横向预测的方法原理,最后以坡1井、雷14井、大天5井和罗家寨构造为例,介绍了测井精细解释技术在碳酸盐岩气藏储量计算中的良好应用情况。结果表明,应用该技术可提高碳酸盐岩气藏储量计算的精度。     

岩溶台地高压富水特长隧道勘察的精细化探索

岩溶台地高压富水特长隧道精细化勘察应在收集和分析区域地质资料、前期勘察成果、前人研究成果及类似工程案例的基础上,找出主要的水文与工程地质问题,针对这些问题进行水文地质与工程地质调绘和地球物理探测,在此基础上构建地质模型,并采用有针对性的水文地质钻探、工程地质钻探、现场监测与测试及数值仿真等方法与手段,对地质模型进行验证、丰富与优化。以G59呼北高速张家界—官庄段沅古坪隧道为研究对象,为了查明岩溶台地高压富水特长隧道的水文地质与工程地质条件,在水文地质与工程地质测绘、地球物理探测、地质钻探及工程评价等方面进行了精细化勘察的探索与研究,提出了精细化勘察技术思路。根据精细化勘察技术思路,细分隧道区域的地下水系统,划为17个地下水系统,隧道穿越9个地下水系统。采用空气潜孔锤(down-the-hole, DTH)-孔内电视复合方法查清了大湖村段水文地质结构,在此基础上,采用解析法和数值法预测了隧道涌水量,隧道涌水量在150 mm降雨量条件下为26.93×10⁴ m³/d,评价了突水突泥风险,在大湖村岩溶泉系统及柏杨坪岩溶地下河系统为高风险区。     

局部精细点的结构及其应用

在本文中,我们主要研究了局部精细点的结构,并讨论了其对抽象等周问题的应用.     

系统还原算法分析

介绍了系统还原算法的设计思想,深入分析了转存缓冲原理,创建了系统还原算法的数据结构,详细描述了系统还原与系统更新的算法工作流程,讨论了未来系统还原的研究方向。     

基于中期基准面旋回变化的沉积微相精细研究——以松辽盆地扶余油田泉四段为例

 从区域沉积背景出发,以岩心和测井资料分析为基础,对松辽盆地扶余油田泉四段的岩石类型、粒度分布、沉积构造、泥岩颜色及地球化学特征等各类沉积相标志进行分析,确定其为三角洲沉积,包含三角洲平原和前缘亚相。其中,平原亚相可识别出分支河道、决口扇、天然堤、废弃河道、湖泊沼泽微相;前缘亚相可细分为水下分支河道、河口坝、远沙坝、水下天然堤和支流间湾等微相。依据沉积微相与地层格架的成因关系,在中期基准面旋回的控制下应用取心关键井建立了沉积微相的定量识别图板,对非取心井进行沉积微相的定量识别与划分,并在此基础上绘制了沉积微相的平面及剖面图,总结了微相类型的平面和纵向展布规律及其与含油性的关系,指出分支河道砂体发育规模、连续性、储集性、含油性最好,其次为河口坝砂体,为研究区下一步的开发方案提供地质依据。     

超高精度定位系统及线性补偿研究

依据一个带有宏定位和微定位的超高精度定位系统设计，应用弹性力学理论进行精定位台的静、动参数的分析和估算，确定了系统的自然频率，并由此设计出双伺服环的控制系统。控制系统由2根循环滚珠丝杠构成宏定位，3个压电驱动器构成微定位。在系统软件中，采用Chebyshev数字滤波器进行去噪，使整个定位系统控制在200mm的行程中，其定位精度达到了8nm。对于由压电驱动器（PZT）的迟滞和非线性特性而产生的系统重复运动误差，系统采用EMM（Exact Model Matching)控制策略，最终实现正向和反向运行的误差量比补偿前降低5倍以上，使得正反向运动几乎落在同一曲线内，实现了对压印光刻工艺集成电路制造中的高精度定位要求。