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991.
半正弦波冲击时瓦楞纸板破损边界研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
根据瓦楞纸板平压静态模型,研究瓦楞纸板缓冲衬垫简化模型的包装材料在半正弦波激励下的冲击响应,建立动力学方程.应用四阶龙格-库塔数值法求解,从而得到瓦楞纸板包装系统的冲击谱和破损边界曲线,讨论了相关参数对它们的影响.结果表明,瓦楞纸板缓冲衬垫的系统参数(α、β、γ)对系统冲击谱和破损边界曲线有显著的影响。  相似文献   
992.
采用自行设计的定向凝固装置进行Al-Cu合金定向凝固行为研究,研究Al-5%Cu合金在脉冲电流作用下微观组织的演变特征.结果发现:脉冲电流的导入明显改变了定向凝固的Al-Cu合金凝固组织形态,不同频率的脉冲电流具有不同的影响效果,在100Hz的小频率电流作用下,合金的定向凝固特征加强,枝晶结构不明显,但定向凝固形成的柱状晶半径加大,随着电流频率增大到200Hz,二次枝晶结构开始显现,组织呈现树枝状结构特征,当300Hz电流频率时,组织结构呈现排列整齐的的骨架结构,随着电流频率继续增加到400Hz时,组织变为细小的树枝状结构特征,组织整体比较细小,而且分布较均匀,在500Hz高频率电流作用下,组织又显得粗大,呈现向等轴晶转化趋势.  相似文献   
993.
提出了一种三相交流36 V开关稳压电源的设计思路.此设计采用TOP系列单片开关电源芯片来代替传统的线性稳压芯片,利用高频变压器来代替传统变压器,极大的缩小设计体积;采用高性能8位单片机ATmega8模拟DDS算法来进行编程控制,从而产生交流36 V,400 Hz中频逆变稳压输出.  相似文献   
994.
周奖  陆翔  权运良 《科学技术与工程》2013,13(15):4159-4164
分析了VIENNA型三相三电平PWM整流器的拓扑及其数学模型,以及三电平变换器的状态空间矢量调制技术(SVPWM)。提出了基于PI控制的双闭环的控制策略(即电压外环、电流内环),并引入中点电位因子r对中点电压进行平衡控制。为了验证所提控制策略的可行性,搭建了VIENNA型三相三电平PWM整流器的仿真平台以及1.6 kW的实验样机进行仿真与实验研究。仿真及实验结果表明,所提出的调制方法及控制策略是可行的。该整流器具有控制简单、易于数字化实现、在稳态条件下谐波畸变率小于3%、功率因数接近1等特点。  相似文献   
995.
基于60°坐标系的SVPWM过调制算法   总被引:1,自引:0,他引:1  
传统的空间矢量脉宽调制(SVPWM)在正交坐标系中实现时,涉及的计算量较大,相应的过调制算法更为复杂.为了更利于实时操作,文中分析了60°坐标系下SVPWM算法的特点,提出了一种计算量小,易于实现的过调制算法.该算法能统一处理参考电压矢量整个调制区域,不需要计算保持角.在六阶梯波模式中,该算法不需要计算参考电压实际角度来选取基本电压矢量,仅需要根据原来没有过调制处理时计算得到的基本电压矢量作用时间做出选择.理论分析和实验结果证明该算法能节省大量计算时间.  相似文献   
996.
激光光束质量是一个很有现实意义的论题,对不同应用的激光光束其质量的评价标准一般不同。给出了几种有代表性的激光光束质量的评价方法,并分别对各种评价标准的合理性与适用性进行了详细的分析;研究了实际应用中对激光光束质量的一些要求和相关的评价参数。  相似文献   
997.
以铝青铜为基材、铜镍合金为熔覆粉末,采用压粉方式实现激光熔覆加工.对此过程建立二维温度场数值模型,考虑温度变化对铝青铜热物理参数的影响以及表面对流换热、内部结晶潜热等因素,用C++语言编写激光熔覆过程中温度场模型的计算程序.结果表明,激光熔覆加工过程中的温度场变化是由非稳态到达稳态的过程,激光光斑附近温度梯度较大,远离光斑处温度梯度较小.由温度场分布图得知,为优化加工质量,满足熔覆要求,试验应采用由高到低的功率进行熔覆.  相似文献   
998.
激光层裂法测量涂层结合强度是近年来新发展的一种方法 文中介绍了该方法检测的基本原理与实验方法 ,并对该测量方法的几个关键技术 ,即应力波生成与传播的数学模型、约束层与能量吸收层对应力波形的影响、应力波形的测量与临界值的判定 ,进行评述 并讨论了该技术的研究进展  相似文献   
999.
功率谱分析在混凝土质量超声检测中的应用研究   总被引:3,自引:0,他引:3  
对超声换能器发射的超声功率谱作了讨论,分析了超声脉冲在混凝土中传播的功率谱特性,在此基础上,提取了超声功率谱特征参数,提出了一种应用模糊集理论对波形完好程度进行判别的新方法,实验结果表明了这种方法的有效性。  相似文献   
1000.
设计一种半导体激光器的稳恒功率控制系统.该系统以3个高精度放大器OPA114,OPA602和OPA335为核心,采用滤波和慢启动电路,具有集成度高、元件少、性能稳定等优点;采用光功率负反馈控制,能为半导体激光器提供高稳定的、连续可调的驱动电流.实验结果表明,在该系统的驱动下,半导体激光器连续工作5 h,光功率稳定度可达0.048%,比开环时的稳定度提高了近5.5倍,达到设计要求.  相似文献   
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