Polymer/Si AWG器件材料光学性质的准确测量

使用WVASE32型椭偏仪, 对Si基单层有机薄膜的测量方法进行分析; 并对聚甲基丙烯酸甲酯（PMMA）材料和氟化聚酯材料进行测量, 根据测量结果对阵列波导光栅（AWG）器件进行设计. 在124 nm到1 700 nm之间可测量出任意波长的折射率, 其均方差（MSE）均远小于1, 证明测量结果极其准确. 同时探讨了对多层有机薄膜及氟化聚合物薄膜的测量方法.     

椭偏光谱测量匀质膜光学特性的计算分析

应用椭偏光谱法，测量透明膜和吸收膜的折射率、厚度及消光系数．利用Delphi语言编程对实验数据进行处理，其结果与已正式出版的椭偏测厚数据表进行对比，各测量点绝对误差为0．01nm，该程序适用于椭偏光谱仪对各种匀质膜测量的数据处理．     

磁控溅射制备FeSi膜的性质

本文利用JGP-560CⅧ型带空气锁的超高真空多功能溅射系统在Si(100)和玻璃基底上沉积了介质薄膜、半导体薄膜、金属薄膜和磁性薄膜,通过实验研究得到各种薄膜较好的镀膜条件;并采用可变入射角椭圆偏振光谱仪对其中一些薄膜的光学性质进行了分析,研究了制备条件对薄膜在可见光范围内光学性质的影响;还研究了直流溅射、射频溅射、反应溅射的特点和它们的适用范围。