关于偏序集到方体的嵌入的一个注记

我们通过一个反例说明下述问题的解答是否定的,假若Z-完备偏序集P可用保任意存在交与Z-并映射嵌入到某方体之中,则P是否为Z-拟连续的?     

滴灌管不同埋置方式对黄瓜生长的影响

研究了不同滴灌管埋置方式对黄瓜的生长发育、水分利用及土壤硝态氮、铵态氮分布等特性的影响,以期为选择合理的滴灌管埋置方式提供科学依据。     

考虑再生粗骨料随机分布的混凝土氯离子扩散细观数值模拟

考虑粗骨料分布的随机性及氯离子结合的非线性对氯离子扩散性的影响,对再生混凝土中氯离子扩散进行数值建模与细观仿真分析,并将数值模拟结果与已有试验数据进行对比;通过改变老硬化砂浆扩散系数、新硬化砂浆扩散系数、老界面过渡区扩散系数及浸泡时间,对比研究了不同情况下再生混凝土中氯离子的扩散特性.结果表明:数值模拟结果与试验结果接近;再生混凝土中氯离子沿扩散深度方向呈波浪式下降;随着扩散系数的增大及浸泡时间的增长,氯离子扩散速度加快;随着再生粗骨料取代率的增加,氯离子扩散速度也增加;相同扩散深度处,不同随机骨料模型中氯离子含量最大值接近,说明所采用的随机骨料模型模拟结果具有较好的稳定性.     

基于残差邻域嵌入的超分辨率算法

通过对基于邻域嵌套的超分辨率算法研究,并受到多分辨率图像处理的启发,提出了一种改进的采用残差进行邻域嵌套的超分辨率算法。在灰度和彩色图像上的实验均表明该方法得到的结果具有更低的均方根误差,而且更好地保持了高频空间的细节,例如高对比度和锐利的边缘。     

提高分光计调节效率的探索

针对光学实验中分光计调节的困难,提出了调节措施,缩短了调节时间,为分光计后续相关实验的开展奠定了基础.     

一类图的亏格嵌入

在联树模型的基础上,把图在曲面上的嵌入用其联树,也即其关联曲面来表示。然后通过对关联曲面进行分类,建立递推关系式,进而得到了一类异于目前已知嵌入分布的新图类的可定向嵌入分布。     

绢云母片岩粗粒料路基压实质量检测方法及其控制标准

绢云母片岩粗粒料作为路基填料,压实质量非常难以控制,压实度法、沉降差法等传统质量控制方法均不适用。借鉴铁路路基压实质量检测中的经验,引入动态变形模量Evd和地基系数K30指标对绢云母片岩粗粒料路基压实质量进行现场试验测试。结果表明,动态变形模量Evd和地基系数K30之间存在良好的相关性,可适用于绢云母片岩粗粒料填料压实质量控制。通过试验结果分析以及与相关资料类比,给出了绢云母片岩粗粒料压实质量控制标准。     

再生粗骨料取代率对再生保温混凝土抗压强度离散性影响研究

本文对再生保温混凝土（以下简称为RATIC)的抗压强度和抗压强度离散性的规律进行了介绍分析。通过改变RATIC中再生粗骨料的取代率,对比分析不同再生粗骨料取代率对RATIC的抗压强度和离散性的影响,并且探索出其相应的规律。以再生粗骨料不同取代率为基础的研究试验发现：当再生粗骨料取代率为30 %时,RATIC抗压强度相对于取代率为0 %的保温混凝土的抗压强度值没有发生显著变化;当再生粗骨料取代率在30 %以上时,随着再生粗骨料取代率的增加,RATIC抗压强度值出现明显下降的现象;当再生粗骨料取代率达到70%时,相对应的RATIC抗压强度出现最低值;与此同时,RATIC在不同再生粗骨料取代率对应下的抗压强度标准差值的波动幅度也较为明显,当再生粗骨料取代率在0 %~100 %时,RATIC的抗压强度标准差在0.97~1.71 MPa之间变化,并且当再生粗骨料取代率为50 %时,RATIC抗压强度标准差达到最大值1.71 MPa。     

城市用水量预测的混沌理论研究

分析了混沌理论特征,利用城市用水量混沌特性,建立城市用水量短期预测模型,对城市用水量进行科学预测.利用历史数据信息,在相空间重构基础上对城市用水量时间序列进行分析,分析饱和嵌入维数、延迟时间和Lyapunov指数求解方法并对其进行计算,并以此为指导对城市用水量进行高精度预测.利用建立的模型对东北某市日用水量进行预测,结果表明基于混沌理论的城市用水量预测模型具有较高精度,对于受众多因素影响的城市用水量预测有良好的推广价值.城市用水量受众多因素影响,混沌理论为城市用水量预测提供了崭新思路.     

超高精度定位系统及线性补偿研究

依据一个带有宏定位和微定位的超高精度定位系统设计，应用弹性力学理论进行精定位台的静、动参数的分析和估算，确定了系统的自然频率，并由此设计出双伺服环的控制系统。控制系统由2根循环滚珠丝杠构成宏定位，3个压电驱动器构成微定位。在系统软件中，采用Chebyshev数字滤波器进行去噪，使整个定位系统控制在200mm的行程中，其定位精度达到了8nm。对于由压电驱动器（PZT）的迟滞和非线性特性而产生的系统重复运动误差，系统采用EMM（Exact Model Matching)控制策略，最终实现正向和反向运行的误差量比补偿前降低5倍以上，使得正反向运动几乎落在同一曲线内，实现了对压印光刻工艺集成电路制造中的高精度定位要求。