表面活性剂存在下溴邻苯三酚红与钼的显色反应研究及其应用

研究了在大量钨存在下,钼与溴邻苯三酚红、溴化十四烷基吡啶的显色反应,最佳显色酸度为PH4.0,加入EDTA等络合剂,可有效地消除干扰元素的影响,钨含量即使高达1mg,也不干扰20ugM_o的测定,加入tritonX-100,具有增溶、增稳作用,但不改变吸收峰的位置,不改变络合物的组成,在0～40ugMo／25mL范围内符合比尔定律。应用于矿石及钨精矿(WO_3％=63.80％)中钼的测定,与硫氰酸盐-硫脲光度法测定钼的结果作了对照,互相符合。     

一种新型立体集成电感设计

高Q值的片上集成电感是单片集成射频电路、微波电路中不可缺少的重要元件。衬底损耗、金属损耗及电感螺旋线之间磁通量的相互抵消是限制集成电感品质的主要因素。首次提出了一种利用常规硅工艺实现的新型立体集成电感设计,先在介质层上刻蚀出一个锥形柱面,然后在凹面上镀金属层,利用平面螺旋电感的制造方法,就可制造出立体电感;分析了该集成电感在金属损耗及电感螺旋线之间磁通量的相互抵消等多方面的优势;提出了该型集成电感的两种仿真模型;利用ASITIC软件近似仿真发现该型集成电感能获得较高Q值。     

TiO2多孔性薄膜的制备及其环境净化性能研究

采用溶胶-凝胶工艺，以聚乙二醇（PEG）为造孔剂，不锈钢丝网为金属基底，制备了TiO₂多孔性薄膜。通过IR，SEM，BET，Raman光谱等测试方法对TiO₂多孔性薄膜进行了表征。实验结果表明,通过控制制备条件得到的TiO₂薄膜具有锐钛矿晶型和多孔性结构。TiO₂多孔性薄膜的光催化性能与煅烧温度和镀膜次数密切相关。450℃热处理、镀膜4次的TiO₂多孔性薄膜具有较高的活性和稳定性，其对气相甲醛的降解率比普通TiO₂薄膜高28.8%，在TiO₂多孔性薄膜连续使用4次后，甲醛的降解率仍维持在80%以上。     

基底温度对Ti/TiN薄膜内应力的影响研究

摘要：采用反应直流磁控溅射法,在硅基底上制备了一系列不同结构的Ti/TiN多层薄膜。采用X射线衍射仪（XRD）对薄膜物相进行了分析,研究了溅射沉积过程中基底温度对周期薄膜结构及内应力的影响.结果表明：多层薄膜中的Ti出现（101）面,TiN的（200）面衍射峰强度在基底温度为600℃时为最高。随着衬底温度的升高,薄膜内部的压应力逐渐减小,当基底温度在600℃时,薄膜内应力最小。     

巴豆醛水解酸化毒性试验影响因素

总挥发性脂肪酸（total volatile fatty acid,TVFA）和产酸抑制率是评价有毒有机物对水解酸化毒性的重要指标。本研究以巴豆醛为毒性物质,考察基质浓度、污泥浓度、pH对水解酸化毒性试验的影响,采用气相色谱测定挥发性脂肪酸（volatile fatty acid,VFA）,分析产酸情况的变化。结果发现,有机物浓度/微生物浓度（Food/microorganism,F/M）增大至1.47时,TVFA随之增加,F/M继续增大时,因乙酸含量上升导致TVFA略有降低;产酸抑制率随F/M增大而急剧升高,在F/M大于1.47后升高变缓,并于F/M为2.21后基本达到稳定;随着污泥浓度的增加,TVFA略有降低,产酸抑制率在污泥浓度为2.42~4.84 g/L时较高,随后随污泥浓度升高而急剧降低;TVFA和抑制率在pH为7~9范围内均较高。较高的TVFA和产酸抑制率可更好的表征水解酸化毒性,因此水解酸化毒性试验适宜的F/M为1.47~2.21,污泥浓度为2.42~4.84 g/L,pH为7~9。     

温郁金中生物碱的初步分离和鉴定

本文介绍了以氟水为提取剂,成功地从温郁金干粉中分出二种生物碱．     

Hastelloyc-275上激光沉积YBCO超导线材

室温下应用Ａｒ＋ 离子源辅助准分子脉冲激光沉积 （０ ０ ２） 取向的 ＹＳＺ过渡层薄膜于ＮｉＣｒ 合金基底上;基底加温至７５０ ℃,用准分子脉冲激光沉积ＹＢＣＯ 高温超导薄膜于ＹＳＺ／ＮｉＣｒ 上,并切割成线材．实验结果表明：ＹＢＣＯ 超导线材不但为ｃ－轴取向的,同时为在ａ－ｂ 平面内织构的,其临界温度Ｔｃ≥９０ Ｋ（Ｒ＝ ０）,临界电流密度Ｊｃ≥１×１０６ Ａ／ｃｍ ２（７７ Ｋ,０ Ｔ）．     

基底温度对氮化硼薄膜场发射特性的影响

利用射频磁控溅射方法, 真空室中充入高纯N_{2(99.99%)和高纯Ar（99.99%）的混合气体, 在n型（100）Si基底上沉积了六角氮化硼（h-BN）薄膜. 在超高真空（<10^-7 Pa）系统中测量了BN薄膜的场发射特性, 发现 沉积时基底温度对BN薄膜的场发射特性有很大影响. 基底温度为500 ℃时沉积的BN薄膜样品场发射特性要好于其他薄膜, 阈值电场为12 V/μm, 电场升到34 V/μm, 场发射电流为280 μA/cm². 所有样品的Fowler-Nordheim(F-N)曲线均近似为直线, 表明电子是通过 隧道效应穿透BN薄膜发射到真空的.}     

超细纤维合成革基布分散染料染色性能研究

测定了分散染料上染超细纤维合成革基布的上染速率曲线及吸附等温线,研究提升基布染色性能.结果表明,分散染料在超细纤维合成革基布中的吸附和扩散行为是由Langmuir定位吸附和Nemst吸附两种不同方式共同作用完成,吸附等温线符合Langmuir-Nernst二元吸附模型.在一定染料浓度范围内,基布染色性能得以提高.