用衍射分色法制作彩色全息图

彩色全息图的制作是当今全息显示技术中的一个重要研究内容，对全息显示的发展有重要的意义，彩色全息图的制作方法较多，为了提高彩色全息图的质量，提出了用衍射分色法制作彩色全息图，它是通过使用三色光栅，把一张彩色透明片的红、绿、兰信息编码记录在一张黑白胶片上，用单色激光同时再现出所记录的3种颜色的光强分布并将它们记录在一张全息片上作成彩色全息图，该方法的显著优点是制作过程中无须制作3张分色掩膜信息的全息图，改进了3分色法的对准问题，使制作的全息图衍射效率高，再现像的色彩清晰，明亮，还原性好。     

一种金属电爆炸驱动飞片的速度评估方法

针对爆炸箔起爆系统,建立了一套基于压电薄膜估算飞片瞬时速度的实验方法.利用压电薄膜测试了飞片的平均速度,并与1维飞片速度模型的理论结果进行比较.飞片平均速度的误差在10%以内,说明1维速度模型满足计算精度要求.同时,利用飞片速度的理论结果研究了飞片的平均速度与瞬时速度的关系,结果表明,飞片瞬时速度与平均速度近似呈正比例关系.这样就可以利用压电薄膜法估算出飞片的瞬时速度.     

红外多层增透膜系的模拟退火算法

构造了光学薄膜优化设计的评价函数,利用评价函数,用模拟退火算法设计了红外和远红外光区多层增透膜系,并与遗传算法的设计结果进行了比较.     

微型薄膜气敏元件的热功耗分析

为了提出微型薄膜气敏元件热功耗的计算公式,通过实验,研究了元件引线的散热量、金属网罩和元件底座的平均温度、芯片的传热系数随芯片散热面尺寸和工作温度的变化规律．利用所给出的热功耗公式,对微型薄膜气敏元件的热功耗进行了计算,结果与实验一致．     

Glan-Thompson棱镜四层宽带减反射膜的设计与蒸镀

Glan-Thompson棱镜在光学领域有着重要的应用,透过率的高低和有效带宽的大小,直接影响着棱镜的品质．为了提高棱镜的透过率,拓宽有效使用带宽,利用薄膜特征矩阵的原理,设计了四层宽带减反射膜系,选用合适的光学薄膜材料,利用电子束蒸镀,借助于离子源辅助蒸镀,制作了高性能的宽带减反射膜．测试结果表明：平均剩余反射率小于1％,有效使用带宽达300nm,达到了设计要求．     

镀制工艺对金刚石薄膜透射率的影响

用磁控溅射法制备金刚石薄膜,研究了工作气压,溅射电流、镀膜时间三个参数对金刚石薄膜透射率的影响。得到最佳工艺参数:工作气压1.3 Pa,溅射电流0.4 A,镀膜时间2 min。镀制的金刚石薄膜可以作为红外元件的保护膜与增透膜。     

电子束蒸发太阳能电池窗口层ZnO薄膜

用电子束蒸发法在玻璃基片上制备太阳能电池窗口层ZnO薄膜,并在氧气环境下对其在400～500℃的温度下退火1h．通过X射线衍射、电镜扫描、透过率光谱等手段测试和分析所制备的薄膜,结果表明：当薄膜未经过热处理时,薄膜中含有大量的单质锌;当薄膜经过400℃退火后,薄膜逐渐结晶,并且其物相成分基本是ZnO;当退火温度逐渐升高到500℃时,晶粒长大,晶化程度提高,对可见光和近红外光的透过率也增大,平均值可达90％,此时所制备出的ZnO薄膜适合于作为太阳能电池的窗口层。     

YIG磁性薄膜低温集成工艺

为使YIG磁性薄膜应用到Si集成电路中,利用Sol-Gel技术晶化温度低的特点,结合快速热处理(RTP)工艺在Si基上制备了Y2.97Bi0.03Fe5O12薄膜.讨论了Sol-Gel工艺薄膜制备条件的优化,使用原子力显微镜(AFM),X射线衍射仪(XRD)和交变梯度磁强计(AGM)研究了RTP工艺对薄膜样品表面形貌、晶相结构及静态磁性能的影响.结果显示:Sol-Gel技术有效降低了薄膜晶化温度,RTP热处理工艺对Y2.97Bi0.03Fe5O12薄膜结晶温度、晶相结构没有影响,对表面形貌影响较大,从而使薄膜静态磁性能略有降低,但通过低温退火可有效改善RTP工艺对薄膜磁性能的影响.     

原位氧化制备氧化锌薄膜及其表征

在云母基底上热蒸镀锌膜,再采用简单的原位氧化方法制备氧化锌薄膜.研究发现氧化锌膜上表面具有纳米尺度的丛生珊瑚状结构,而与云母接触的下表面具有圆饼状结构.     

花生(花育16)地膜覆盖栽培的生长动态

对花生(花育16)地膜覆盖栽培、荚果产量在6 378.8 kg.hm-2水平下植株生长动态进行了研究。结果表明:根鲜重、叶鲜重及干重、叶面积以出苗后41~60 d增长最快;根干重、茎枝鲜重及干重、茎枝长度、主茎高度、果针鲜重与干重、荚果鲜重、荚果数、全株鲜重及干重均以出苗后61~80 d增长最快;荚果干重以出苗后81~100 d增长最快;出苗后1~80 d,植株生产的干物质主要分配在叶、茎枝中,此后逐渐转入以荚果为主。