Correlation between structure and hardness of magnetron sputtering deposited CNx films

Carbon nitride films are deposited on Si (001) substrates by reactive dc magnetron sputtering graphite in a pure N2 discharge. The structure of carbon nitride films has been probed using Fourier transformation infrared, near edge X-ray absorption fine structure (NEXAFS) and high resolution electron microscopy (HREM), and the hardness has been evaluated in nanoin-dentation experiments. FTIR spectra show that N atoms are bound to sp1, sp2, and sp3 hybridized C atoms. C1s NEXAFS spectra show that the intensity of π* resonance is the lowest for the film grown at substrate temperature TS = 350℃, with a turbostratic-like structure and high hardness, while it is the highest for the film grown at TS = 100℃, with an amorphous structure and low hardness. The correlation between the structure and hardness of carbon nitride films has been discussed.     

铝电解槽阴极电场的计算机仿真

应用有限差分方法计算了工业铝电解槽阴极三维空间的电场分布。讨论了160kA和 135 kA 两种不同容量预焙阳极电解槽的阴极电场特性,绘制出阴极电位等值图,分析了影响阴极电场特性的诸因素。研究了改善阴极性能,促进降低电压降的可能性     

空气—乙炔火焰原子吸收光谱法测定痕量铝

文研究了空气－乙炔火焰原子吸收光谱法测定铝的方法，利用铝对钙的干扰效应和微量进样技术间接测定了化学试剂中的痕量铝。实验表明，该法具有样品用量少，精密度好，简便实用的优点。。     

铝从AlCl_3-NaCl-CsCl熔体中析出的电化学研究

应用循环伏安法,计时电流法和计时电位法对铝从AlCl_3-NaCl-CsCl熔体中的析出过程进行了研究。研究表明,在该熔体系中铝的析出为包含三个电子的简单快速反应。从计时电位法测出700℃时氯化铝的扩散系数为5.4±0.3cm~2·s~(-1)。研究同时表明成核与长大过程在初期起着重要作用。     

高含量硅的快速分析方法研究

本文提出用二氧化二氢噻吩作β-硅钼酸的稳定剂,抑制向α-硅钼酸的转化,效果较丙酮好,并采用1-氨基-2-萘酚-4-磺酸与亚硫酸和抗坏血酸混合还原剂,促进硅钼蓝的还原,配合82型示差光度计,可在半小时内完成测定,本法可测含二氧化硅在50%以下的铝合金试样,方法快速、准确、重现性好。     

3004铝合金铸轧板的组织与织构研究

通过光学金相、透射电镜和x射线衍射技术等分析方法,研究了3004铝合金铸轧板的组织和织构特征。结果表明铸轧板树枝晶呈“V”型特征,基体为a-Al过饱和固溶体,其中分布有少量细小析出物;三维取向分布函数(ODF)分析表明,铸轧板织构组态复杂且漫散,本文还探讨了各类织构的形成过程、存在的部位和相应的体积分数。     

氮化铝样品厚度与热扩散率关系研究

应用激光闪光技术测量不同厚度的氮化铝AlN样品时,发现热扩散率测得值随样品厚度的减小而降低。这一现象无法用传统的理论加以解释。我们在考虑了AlN材料的部分透光性之后,推导出与传统公式不同的半经验半理论公式,应用此公式可克服上述现象及矛盾。传统公式是新公式的一个特例。