在硅基材料上用Sol-gel法制备涂层测定氧扩散系数研究

提出一种测定氧扩散系数新方法。用Sol-gel法制备了Y2O3/SiO2均匀致密的薄膜,能成功解决其它方法无法得到的冶炼所得到的熔体,光学椭偏测定氧化层的膜厚。探讨了氧在薄膜中的扩散,在Wagner理论基础上,用数学方法表达在掺杂SiO2薄膜氧扩散系数与氧化层膜厚的关系。     

硫酸浓度对纳米级SO4^2-／TiO2固体超强酸的影响

用锐钛型纳米TiO2制备了纳米级SO4^2-／TiO2固体超强酸，分析了硫酸浓度不同时其比表面积、失重率、红外光谱及催化活性的不同。当硫酸浓度为1．0mol／L时，它在450～900℃的失重率为3．3％，比表面积为105．2m^2／g，对乙酸和丁醇酯化反应的酯化率达到98．4％。玻璃球负载纳米级SO4^2-／TiO2固体超强酸的重复使用性能好，在乙酸和丁醇的酯化反应中重复使用9次后的酯化率才由初次的99．3％变为84．9％。     

在硅基材料上用Sol-gel法制备涂层测定氧扩散系数研究

提出一种测定氧扩散系数新方法.用Sol-gel法制备了Y2O3/SiO2均匀致密的薄膜,能成功解决其它方法无法得到的冶炼所得到的熔体,光学椭偏测定氧化层的膜厚.探讨了氧在薄膜中的扩散,在Wagner理论基础上,用数学方法表达在掺杂SiO2薄膜氧扩散系数与氧化层膜厚的关系.     

准经典轨迹法研究Ni(3F4)+H2(X1Σ+g)反应

基于多体展式方法所导出的NiH2(3Δg)解析势能函数,用准经典的Monte-Carlo轨迹法对Ni(3F4)+H2(X1Σ+g,v=j=0)的分子反应动力学过程进行了计算.结果表明此反应的主产物为交换反应Ni(3F4)+H2(X1Σ+g,v=j=0)→NiH(X2Σ+,v′,j′)+H(2Sg)的NiH(X2Σ+,v′,j′),没有发现NiH2(3Δg)络合物,从反应截面σr与相对平动能Et的关系发现该反应为有阈能反应,阈能值为33.87 kJ/mol.同时,由于Ni的质量比氢的大,发生的是直接碰撞,产物散射角分布是向前的.     

以[NEt4]3[Fe(CN)6]和[Mn(Ⅲ)(SB)S1S2]ClO4为单元的分子磁体的合成和表征

以[NEt4]3[Fe(CN)6]和[Mn(Ⅲ)(SB)S1S2]ClO4(SB,席夫碱＝5-CH3salophen (双水杨醛缩邻苯二胺)和5-CH3salen (双水杨醛缩乙二胺),S1和S2为H2O或CH3OH)为单元,室温下组装得到了新的化合物,并进行了相应的表征.结合元素分析、红外光谱分析、紫外-可见光谱分析和热分析结果,可以看出,席夫碱配体的空间位阻不同,化合物的结构也有很大变化.     

微乳液法合成纳米二氧化硅粒子

制备 Triton X- 1 0 0 /正辛醇 /环己烷 /水 (或氨水 )微乳液 ,研究了该微乳液系统稳定相行为与制备条件的关系 .在该微乳液系统稳定的条件下 ,由正硅酸乙酯受控水解反应制备 Si O2 纳米粒子 ,反应后处理简便 ,制得粒子尺度较均一的球形疏松无定型纳米 Si O2 粒子 .Si O2 粒子粒径尺寸可通过调节水与表面活度剂分子数之比 m、水与正硅酸乙酯分子数之比 n控制 .探讨了影响 Si O2 纳米粒子形貌、粒径分布的因素及制备优化条件     

铑(Ⅲ)与5-NO2-PADAT配合物催化氢波及其应用

在pH4．5的HAc-NaAc缓冲介质中，铑(Ⅲ)与5-(5-NO2-2-吡啶偶氮)-2，4-二氨基甲苯(简称5-NO2-PADAT)生成稳定的紫红色配合物，并在适量的HClO4底液中于-1．03V(vs SCE)处产生灵敏的催化波，据此建立了一种催化极谱法测定痕量铑的新方法。测定铑的线性范围为4．0～130ng／L，检出限为1．4ng／L。     

蟠龙探区长2砂岩储层物性的控制因素

查明低孔、低渗砂岩储层非均质性的原因,对该类油藏的研究、勘探和开发具有重要的理论和实际意义。对蟠龙探区上三叠统长2砂岩进行了沉积相、砂岩岩石学和成岩作用及储层物性演化影响等研究,结果表明:其物性受沉积相、裂缝发育程度与规模、砂岩碎屑成分及成岩作用的控制,辫状河河心砂坝中细-细砂岩具有较高的孔隙度(平均13.5％)和渗透率(平均16.656×10-3μm2),曲流河天然堤粉细砂岩和细砂岩的孔隙度(平均11.2％)和渗透率(平均7.085×10-3μm2)较低;埋藏压实作用是导致砂岩孔隙丧失的主要原因,使平均孔隙度丧失23.3％,胶结作用使平均孔隙度丧失6.4 ％,碳酸盐是砂岩孔隙度丧失的主要胶结物;次生溶解作用是物性得到改善的重要途径;裂缝(平均1.8％)对砂岩渗透率的提高起了重要贡献。认为裂缝是导致砂岩储层非均质性较强和影响油田注水开发效果的主要因素之一。     

铜离子在4-甲氧基-2,6-二(3,5-二甲基吡唑)-1,3,5-三嗪吸附型修饰电极上的电化学行为

用循环伏安法和方波伏安法研究了铜离子在4 甲氧基 2,6 二(3,5 二甲基吡唑) 1,3,5 三嗪(简称MBDT)吸附型修饰电极上的电化学行为.通过吸附在玻碳表面的配体与铜离子的配位作用,对Cu(Ⅱ)和Cu(Ⅰ)进行了电分析,结果表明,Cu(Ⅰ)在修饰电极上表现出比Cu(Ⅱ)高得多的灵敏度.