全文获取类型
收费全文 | 4457篇 |
免费 | 86篇 |
国内免费 | 275篇 |
专业分类
系统科学 | 3篇 |
丛书文集 | 235篇 |
教育与普及 | 342篇 |
理论与方法论 | 21篇 |
现状及发展 | 73篇 |
综合类 | 4144篇 |
出版年
2024年 | 18篇 |
2023年 | 52篇 |
2022年 | 41篇 |
2021年 | 56篇 |
2020年 | 55篇 |
2019年 | 68篇 |
2018年 | 22篇 |
2017年 | 38篇 |
2016年 | 52篇 |
2015年 | 68篇 |
2014年 | 131篇 |
2013年 | 140篇 |
2012年 | 192篇 |
2011年 | 200篇 |
2010年 | 200篇 |
2009年 | 252篇 |
2008年 | 247篇 |
2007年 | 242篇 |
2006年 | 191篇 |
2005年 | 226篇 |
2004年 | 186篇 |
2003年 | 206篇 |
2002年 | 150篇 |
2001年 | 193篇 |
2000年 | 185篇 |
1999年 | 160篇 |
1998年 | 157篇 |
1997年 | 179篇 |
1996年 | 154篇 |
1995年 | 144篇 |
1994年 | 121篇 |
1993年 | 121篇 |
1992年 | 111篇 |
1991年 | 77篇 |
1990年 | 85篇 |
1989年 | 44篇 |
1988年 | 26篇 |
1987年 | 12篇 |
1986年 | 13篇 |
1985年 | 1篇 |
1957年 | 1篇 |
1947年 | 1篇 |
排序方式: 共有4818条查询结果,搜索用时 46 毫秒
101.
Zn2SiO4:Mn纳米微晶薄膜的溶胶—凝胶法制备及其光致… 总被引:3,自引:0,他引:3
以硝酸锌,硝酸锰,正硅酸乙酯,无水乙醇为主要原料,用溶胶-凝胶提拉法制备了Zn2SiO4:Mn薄膜,并利用XRD,SEM,荧光分光光度计和多频荧光寿命仪等对薄膜进行了分析。结果表明,采用上述先驱动通过溶胶-凝胶过程可获得的均匀致密的薄膜。 相似文献
102.
103.
复合氧化物SrTiO3—TiO2氧敏材料的研究 总被引:1,自引:0,他引:1
将具有氧敏特性的SrTiO3与TiO2复合化,采用电子束蒸发方法,制备了SrTiO2-TiO2薄膜,研究了其氧敏特性。实验结果表明,复合氧化物SrTiO3-TiO2薄膜的n-p型转换点比SrTiO3薄膜的n-p型转换点高,氧敏特性有所改善,从而提高了贫燃共氧灵敏度曲线的线性化。 相似文献
104.
铌酸锂(LiNbO3)优良的电光、声光、压电、铁电和非线性光学特性可用于制备性能优良的频率转换器、固体激光器等,更为重要的是与光发射性能相结合可能成为实现硅基光电子集成技术的重要途径之一.本文介绍了LiNbO3掺杂过渡金属元素、稀土元素和LiNbO3多层结构薄膜的光致发光机理及影响因素,指出了目前LiNbO3光致发光存在的问题,并对其发光性能的应用前景进行了展望. 相似文献
105.
1引言近年来,由于光电子器件潜在的巨大市场,使光电材料成为研究的重点。ZnO薄膜是一种光学透明薄膜,纯ZnO及其掺杂薄膜具有优异光电性能,用途广阔,而且原料易得、价廉、毒性小,成为最有开发潜力的薄膜材料之一。目前,研究ZnO材料的性质涉及许多研究领域,其中包括:透明导电膜(T 相似文献
106.
简要介绍蛋白质一纳米粒子薄膜电极的电化学与电催化研究的新进展。纳米粒子能够把自己近距离地固定在蛋白质的活性中心,提供直接、非媒介体的电子转移,大大增强了其电流响应和催化活性,可能比其他的方法更具有潜在的优势。 相似文献
107.
采用反应直流磁控溅射的方法在室温下,在玻璃基底上成功制备了多晶氮化铜(Cu3N)薄膜.XRD显示薄膜是择优生长取向的,在低氮气分压时薄膜择优[111]晶向生长,在高氮气分压条件下薄膜的择优生长取向为[100]、[111];XPS分析表明,在低氮气分压时,薄膜主要由Cu3N和Cu组成;在高氮气分压时,薄膜主要由Cu3N组成,而Cu的含量很少. 相似文献
108.
一种制备纳米多孔金膜的方法 总被引:1,自引:0,他引:1
提出了一种制备纳米多孔金膜的新方法.将金和铜的合金进行热退火处理,然后利用稀酸进行腐蚀,制备纳米多孔薄膜;比较了合金配比和稀酸种类对薄膜形貌的影响;并利用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线光电子谱(XPS)对薄膜的形貌和组分进行了表征. 相似文献
109.
热处理对直流磁控溅射ITO薄膜光电学性质的影响 总被引:2,自引:4,他引:2
利用直流磁控溅射在石英衬底上沉积透明导电的掺锡氧化铟(ITO)薄膜,在相同条件下制备了两种不同溅射时间(30、10min)的样品,样品在400℃的大气中进行1h退火处理.利用分光光度计测量薄膜的正入射透射光谱,并拟合透射光谱得到薄膜的折射率、消光系数及厚度;用Van der Pauw方法测量薄膜电学性质,包括载流子浓度、载流子迁移率和电阻率.实验结果显示退火处理对ITO薄膜的光学、电学性质有重要影响,退火样品在可见光区域的透过率明显提高,且光学吸收边向长波方向移动;然而,退火前薄膜的电学性能更好. 相似文献
110.
利用射频磁控溅射复合靶技术,通过调节复合靶的百分比制得富硅的氧化硅薄膜,并在不同的温度下退火,制得含纳米硅的氧化硅薄膜.通过Raman谱的测量,计算出800℃退火的薄膜中纳米硅晶粒的平均尺寸为5.6 nm,用X射线衍射测量同样的样品得出其粒径为6.0 nm.在室温下测量光致发光(PL)谱,探测样品的峰位为360 nm,并结合光致发光激发谱(PLE),研究相应的激发与发光中心. 相似文献