Nd掺杂与人造沸石载体对TiO_2光催化活性的影响

以具有规则多孔结构的人造沸石为载体,以Nd(NO3)3和Ti(OBu)4为前驱体制备钕离子掺杂TiO2光催化剂.在紫外光的照射下,以甲基橙为光催化降解反应模型化合物,研究了TiO2、Nd-TiO2、TiO2/沸石、Nd-TiO2/沸石光催化剂的活性.通过FT-IR的表征,探讨了Nd和沸石对TiO2的光催化活性的影响.实验结果表明:掺杂钕离子能提高TiO2的光催化活性,催化剂用量为2 g/L,掺杂量为1.0%时,光催化活性最高;用人造沸石为载体所制得的TiO2光催化剂对甲基橙也具有较好的光催化降解效果.     

快速点磨削磨削液射流特性及喷嘴极限位置研究

快速点磨削是一种新型高速/超高速磨削加工技术,由于砂轮极高的线速度会在砂轮周围产生高速旋转的空气带,对磨削液注入磨削区产生阻碍作用,降低磨削液进入磨削区的比率,因而会对磨削过程和加工的绿色度产生影响.在对磨削液喷射过程的射流结构与特性分析的基础上,对圆形紊动射流速度分布场进行了解析与仿真.根据等压力原理,建立了磨削液能够冲破高速空气带而进入磨削区所必需的喷嘴出口速度模型.通过射流核心区速度的分析,建立了磨削液喷嘴极限位置的工程计算公式,并给出了快速点磨削实验机床磨削液供给参数的设计实例.     

由碳还原KMnO4制备氧化锰/碳超级电容材料

以碳粉为还原剂，在酸性条件下与KMnO₄反应制备了粉末状氧化锰/碳复合材料，研究了碳还原剂种类（活性炭、石墨化中间相碳微球和膨胀石墨）以及镍、钴、铒离子对制备的氧化锰/碳粉末结构及电化学性能的影响。采用X-衍射技术和扫描电子显微镜（SEM）分析了氧化锰/碳的结晶结构及表面形态。结果表明，活性炭具有较强的还原能力，氧化锰/碳材料具有良好的电化学电容行为，其中以活性炭为还原剂制备的氧化锰/碳具有较高的电容量，质量比容量达117F/g，掺杂镍、钴后质量比容量达到185F/g。     

无线通信中增强型Turbo乘积码的研究

在无线通信中,由于Turbo卷积码存在错误平层,在BER要求比较低时,一般采用Turbo乘积码(TPC).基于Turbo乘积码,探讨了其增强型方案(eTPC),并给出eTPC迭代译码算法.在AWGN信道下进行性能仿真,结果表明,eTPC随着迭代次数的增加,性能曲线收敛;在码率较高的情况下,eTPC比TPC编码增益高出近1 dB.     

μC/OS-Ⅱ在CCS中移植到OMAP5910的研究

μC/OS-Ⅱ操作系统支持多种芯片.针对ARM的编译器大多采用的是ARM公司提供的ADS,一些提供ARM芯片的厂家常用自己提供的编译器,导致在ADS中编译的代码不能在该厂家提供的编译器中编译.通过μC/OS-Ⅱ在OMAP5910中ARM核端的成功移植,阐述了在CCS编译器下移植和ADS1.2编译器下移植的异同点,介绍了通过TI公司的CCS编译器来编译μC/OS-Ⅱ,移植到OMAP5910的3个要点:系统启动代码、与操作系统移植相关代码及系统时钟定时器驱动.为通过CCS编译器进行编译把μC/OS-Ⅱ移植到TI公司的其它芯片提供了很好的样例.     

基于B/S高校教学教务管理信息系统的设计与实现

结合实际工作,介绍了高校教学教务网络管理信息系统的设计与实现,讨论了该系统的系统功能和几个关键技术。     

PVA/HA复合水凝胶的制备及性能研究

采用模板法制备了微孔羟基磷灰石,采用X射线衍射仪(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)对其结构进行了表征。同时,制备了聚乙烯醇/微孔羟基磷灰石复合水凝胶和聚乙烯醇/纳米羟基磷灰石复合水凝胶。测试了聚乙烯醇/羟基磷灰石复合水凝胶的含水率和力学性能。实验表明,合成的羟基磷灰石具有微孔结构,复合水凝胶含水率可达到60%以上,羟基磷灰石的加入使复合材料的拉伸强度、断裂伸长率都得到了较大提高,可用于人造软骨,是一种很有开发前景的生物医用材料。     

用电荷检测离子阱质谱技术测量聚苯乙烯球粒子的质量

采用高速电荷检测离子阱质谱技术(CDIT-MS)测量了聚苯乙烯球的质荷比和所带电荷数,得到了聚苯乙烯球粒子的质量;通过对数百次测量结果的统计,给出了粒子的质量分布图,并用Gaussian线型对质量分布图进行了拟合,得到聚苯乙烯球的平均质量为1.93×10-13kg,与理论质量(~2.03×10-13kg)接近.结果表明,电荷检测离子阱质谱技术能有效测量微米离子的质量,且测量时间短、准确性高.     

QPSK与π/4-QPSK调制原理分析与比较

针对移动通信中常用的QPSK及π/4-QPSK调制解调技术,详细讨论了其调制原理,分析比较两种调制方式的异同,并用仿真的方法比较了两种调制方式下的功率谱密度。得出在通过带限或非线性信道时,π/4-QPSK信号频谱扩散优于QPSK信号的基本原理。     

Ag溅射参数对FePt/Ag薄膜取向生长的影响

采用有交互作用的正交实验方法对磁控溅射法在玻璃基片上制备FePt/Ag纳米双层膜Ag底层的溅射参数进行研究.通过直观分析,方差分析和XRD图分析,可以选出Ag底层诱导FePt层取向生长的最佳溅射条件,为FePt磁性层性能的进一步研究应用奠定了基础.