共析钢经表面研磨处理后微观组织的演化

利用表面研磨处理(SMAT)在共析钢上制备出具有纳米晶体结构的表面层,并利用X射线衍射和透射电镜分析了纳米表面层的微观组织结构及其演变.结果表明:原始组织为层片状铁素体 渗碳体两相复合组织的共析钢经过SMAT后,铁素体晶粒由于位错产生、位错缠结形成位错胞,然后分割晶粒使铁素体细化至纳米尺度,而渗碳体在强烈塑性变形下,经历弯曲、断裂,最终分解成体心立方铁素体和底心正交的石墨.     

N,N''''-双脂肪酰基乙二胺二丙酸钠表面活性剂的合成及性能

以无水乙二胺、丙烯酸甲酯、不同链长的脂肪酸为主要原料,经过加成、酰化和皂化等反应,合成了4种阴离子型偶联表面活性剂[N,N'-双脂肪酰基乙二胺二丙酸钠(GS-2Cm 1)],并进行了性能表征.通过测定不同浓度水溶液的表面张力和电导率,获得其临界胶束浓度(CMC)、偶联表面活性剂在气-液界面上的吸附量、单个分子的面积和胶束电离度,计算了胶团化过程的热力学函数变化,实验结果显示:GS-2Cm 1系列表面活性剂的胶团化过程主要来自熵驱动.     

表面活性剂及大分子作为纳米粒子制备模板的研究新进展

分析了表面活性剂、大分子以及表面活性剂-大分子复合体系在纳米粒子制备中的应用.研究表明,表面活性剂形成的胶束结构、大分子或表面活性剂和大分子形成的有序体均可以作为软模板,在制备纳米粒子中发挥模板作用和稳定保护作用.     

浅议高分子的表面化学组成生物特性

生物相容性是高分子材料在临床上用作医用装置的基本要求,改变高分子材料的表面化学组成是提高其生物相容性的重要途径。论述了构建表面化学组成改性高分子材料生物相容性的最新研究进展,并对改善高分子材料生物相容性的研究方法提出了一些看法     

Surface modification of poly（vinyl chloride） by long-distance and direct argon RF plasma

AS AN ELECTRICALLY NEUTRAL, HIGHLY IONIZED GAS COM- POSED OF IONS, ELECTRONS, AND NEUTRAL PARTICLES, PLASMA IS A PHASE OF MATTER DISTINCT FROM SOLIDS, LIQUIDS, AND NOR- MAL GASES,KNOWN AS THE FOURTH STATE OF MATTER[1]. RECENT YEARS SEE GREAT PROGRESS IN P…     

非简谐振动对纳米铁磁粒子表面能的影响

在考虑到原子作非简谐振动的情况下,先求出在均匀外磁场中单轴铁磁粒子原子振动的简谐系数、非简谐系数和粒子的自由能.再以球状纳米铁磁粒子作计算,以探讨粒子表面能随温度和粒径变化的规律以及原子非简谐振动对粒子表面能的影响.结果表明:铁磁纳米微粒的表面能随温度的升高和粒径的减小而减小,作者认为纳米微粒的小尺寸效应以及由此产生的晶格振动的非简谐效应和晶格振动软化,对纳米铁磁粒子的表面能有重要影响.     

多孔硅溶胶的制备与其可控电迁移研究

用阳极电流腐蚀法制备多孔硅(PS),并将其分散到无水乙醇中形成溶胶.用荧光光谱仪测定了多孔硅溶胶的荧光强度与浓度的关系,研究了不同表面活性剂的掺入对溶胶体系的稳定性及其荧光强度的影响.进行了多孔硅溶胶的电迁移实验,并发现不同的表面活性剂的加入可使多孔硅溶胶带不同电荷,从而使多孔硅溶胶的电迁移变的可控.用扫描电镜(SEM)和X光电子能谱(XPS)对多孔硅溶胶电迁移沉积层进行了对比分析.研究表明,溶胶体系中表面活性剂的加入对沉积层的成分没有影响,可以用这种方法实现多孔硅纳米粒子的可控组装.     

环丙烷在铜表面解离吸附过程的理论研究

采用密度泛函理论研究了吸附在铜表面的环丙烷的解离吸附过程.环丙烷在大约10eV能量的照射下被激发到第一激发态,处于激发态的分子与铜表面相互作用,电子从铜表面向环丙烷转移使环丙烷的碳碳键活化.根据对各种可能中间态的能量分析,提出了环丙烷在铜表面解离吸附的可能路线,计算的结果证实最稳定的吸附物种是含两个铜原子的五元环化合物.     

人工湿地不同的水流方式和基质对氮和磷的净化的比较

比较了在两种污水浓度下,人工湿地选用不同基质和水流方式时的处理效果,旨在通过试验,找到处理污水的最佳基质和水流方式.结果表明,对于高浓度污水,将陶粒和蛭石结合作为人工湿地基质,对总氮和COD的处理效果较好;水流方式采用表面流和垂直流串联搭配时,污水处理负荷较大,出水水质高.对于低浓度污水,选用陶粒和腐殖质作为基质,出水水质较好.人工湿地基质是影响磷的处理效果的主要因素,选用富含氧化铁的炉渣作为基质时处理效果最好,通过合理的操作方式可以最终从污水中除磷.     

敦煌壁画数字图像的三维信息恢复

详细阐述了用数字近景摄影测量和计算机图像处理技术来恢复敦煌壁画三维信息的过程,以达到原样数字保存敦煌壁画的目的.通过建立洞窟的统一坐标系统,对洞窟壁画进行近景摄影测量,并把近景摄影测量获取的底片用高分辨率的扫描仪扫描成数字图像.然后经过坐标变换,建立每个墙面壁画的辅助空间坐标.在此基础上,经过模型定向、核线重采样、影像匹配、数字表面模型的生成,直至最后生成正射影像,恢复壁画的三维信息.从壁画图像处理的结果来看,所有控制点绝对定向的残差都在毫米级,壁画数字表面模型的中误差也在毫米级,也就是说敦煌壁画图像数据的几何纠正达到了毫米级.这表明用近景摄影测量和计算机图像处理技术可以很精确地恢复敦煌壁画的三维空间信息,从而达到保护和永久地数字化存贮敦煌壁画、塑像文物的目的.同时也为我们提供了一种文物保护的新方法和新思路,为古代珍贵文物的保护、复原与研究提供了新的手段.