基于分散网络化生产系统的车间生产管理模式及系统设计研究

基于分散网络化生产系统,针对我国中小型机械制造企业技术现状,提出了在基本上不改变现有车间基础设施的前提下,通过信息集成建立产品数据,财务和计算机辅助车间调度等管理子系统,以增强企业适应产品市场多变的能力;采用多品种,小批量生产方式,以满足产品生命周期缩短和２１世纪国际化大市场竞争的需求。     

用光反射测试方法检测的硅抛光片和外延片表面的图谱

利用检测半导体硅抛光片及硅外延片表面缺陷的光反射法（魔镜法）［1］,观测到了二十余种硅抛光片及硅外延片表面缺陷的图样．本文报道了部份图样．     

超大比表面石油沥青基碳纤维微电极研究

作者研制了一种以石油沥青基碳纤维为电极材料的微电极,基于此种材料的特殊性能,经氧化处理后可获得较一般微电极为大的比表面积,因而其电流响应亦较一般微电极为大。且由于其表面在一定条件下可生成大量的碳氧基团,故其电极电位会随溶液ｐＨ值而线性变化,以至该电极亦可用作测量ｐＨ值的微电极。     

粘胶基碳布电化学氧化表面处理的研究

本文用电化学氧化方法对粘胶基碳布进行表面处理。采用电位滴定法分析测定了氧化处理前后碳纤维表面酸性官能团含量的变化,用水滴铺展方法分析了处理前后碳布润湿性能的变化情况,探讨了酸性官能团含量、织物强力与复合材料层间剪切强度的关系,找出了以Ｈ３ＰＯ４为电解质的最佳电化学氧化表面处理工艺。     

计算机支持的协同项目设计模型

讨论了计算机支持的协同设计的工作环境及工作方式,提出了基于任务划分的协同设计的工作流结构,建立了协同工作空间以支持群体成员的项目设计,包括组建设计组、分解子任务、制定计划、执行计划、监督及修改计划等,描述了协同工作空间中的三级协同方式：计划协同、方案决策协同、设计图纸协同,并对协同工具———共享图板的实现进行了讨论．     

化学法清洗硅片过程中清除颗粒的机理(英文)

对化学法清洗硅片过程中消除颗粒的机理作了定量的探讨。颗粒的清除是由于化学蚀刻和颗粒与表面排斥力共同作用的结果。首次提出了最浅蚀刻深度和最小蚀刻速度的概念。最浅蚀刻深度可通过颗粒与表面间作用能的关系进行计算。是小蚀刻速度则可通过蚀刻侧形进行计算。研究结果对于优化化学法清洗过程和设计高性能清洗液都具有重要意义。     

笔段型液晶显示器图形基元的计算机辅助设计系统

利用AutoLIST语言编程,对AutoCADR12系统进行二次开发,开发出绘制笔段型液晶显示器图形基元的计算机辅助设计系统"BJ"．使人机交工绘制基元图形的过程,转化为通过给定设计参数,自动生成基元图形的过程。节省了作图时间,降低了繁琐作图过程对菲林设计的干扰。     

DBMS软件产品数据库设计的实用策略

本文以“通用帐务处理软件数据库设计策略”为背景,对DBMS(Data Base Management System)软件产品数据库设计的方法和策略进行探讨。     

凸轮-连杆组合机构设计系统

将计算机辅助设计技术、网络技术与机构设计相结合,以组合机构的尺寸综合理论为基础,以机构最小尺寸为优化目标,采用Java作为开发语言,应用模块化的面向对象的设计方法,研制开发了凸轮-连杆组合机构网上设计系统.     

磨削加工中磨削参数的模糊优化设计

将磨削加工中磨削参数的选择转化为优化设计问题．以最高生产率为目标函数，考虑了各约束边界的模糊性，建立了优化磨削参数的数学模型，运用模糊优化设计方法确定磨削加工中最佳的磨削参数。