排序方式： 共有12条查询结果，搜索用时 78 毫秒
11.
提高硅铜片磁性能的最佳途径是提高钢片的硅含量。本研究采用等离子体化学气相沉积(PCVD)法，在(0．1～0．3)mm厚的普通硅钢片表面上涂硅，然后进行短时间高温扩散处理。结果表明：硅钢片的Si含量可达到6．5％，磁性能有很大改善。在(460-600)℃范围内渗硅，其它条件不变，渗硅速度随着温度的升高而降低，这是由等离子体反应的特殊动力学和热力学性质所决定。 相似文献
12.
本文对平行圆板型装置中等离子体化学汽相沉积(PCVD)质量转换过程,提出了一种数学描述方法.文中通过数值计算,主要讨论了活性粒子的产生频率、活性粒子沉积速率的径向分布及沉积速率与过程参量(如系统内气压、气体流速等)的相互关系,并对部分结果进行了理论分析. 相似文献