当今世界一些控制领域所面临的机遇与挑战

从四个方面综述了当今世界一些控制领域所面临的机遇与挑战,并对其发展现状及趋势作了讨论。     

含非线性介质的RLC电路与有腔全光学型双稳系统的相似性

从动力学方程上揭示了非线性RLC电路与本征型光学双稳系统的相似性.通过按一定实验数据拟合的磁导率函数,研究含铁磁质的RLC电路的双稳性及有关静、动态特性.     

识别非线性目标的谐波匹配法

本文运用非线性系统的Volterra理论来研究雷达非线性目标的识别问题,提出了一种新的识别非线性目标的多频谐波匹配法。文中在分析了非线性散射的机理之后,提出了一种结构化逼近散射模型,并以模型中前置系统的本征系数为非线性目标的分类特征,还研究了自动识别过程的数据拟合匹配法。最后利用描述非线性结的唯像模型,对本文的方法作了“半实物”仿真试验研究,具体建立了四种半实物非线性目标的本征系数特征库,并针对贴近度匹配法对识别过程进行仿真试验,结果表明,这种新的识别方法具有良好的工作性能和极强的抗杂波干扰的能力。     

光激瞬态电流谱方法中激发光强度等因素对结果的影响

本文讨论了用光激瞬态电流谱测量半绝缘材料中深能级时,所加电压的极性、光强的变化等因素对结果的影响。对Martin等人提出的判断陷阱类型的方法进行了分析,在此基础上提出了一种新的方法。并给出了由光强变化而引起的能级位置的测量误差的修正方法。     

一类非线性Schroedinger方程的爆破性质及爆破解的L^2集中性质

研究一类非线性Schroedinger方程iut=-△u-k（x）｜u｜^4/Nu的初值问题，其中后（x）为R^N上有界可微函数，讨论了该方程初值问题的爆破性质及其爆破解的r集中性质．     

Ф600 R—C光学系统的研制

此轻量化R—C光学系统焦距6000mm，相对口径1／10．其主镜通光口径600mm，相对口径1／1．2，主镜轻量化达53％．在传统制作的基础上，提出并研究了新的检测方法和新的工艺，主镜采用会聚光和平行光奥夫纳补偿器检验，次镜采用了反射自准检验和Hindle球检验．对轻量化主镜采取多点支撑方式．次镜加工精度：Hindle球检验弥散圆直径0．02mm，面形误差值0．12λ（λ=0．6328μm）．主镜补偿检验弥散圆直径0．02mm，主次镜组合光学系统的弥散圆0．02mm，WYKO干涉仪检测波前误差值1．2λ，均方根为0．18λ，完全达到了使用要求．     

Gal-xZnxNO光催化剂粉体的制备及其表征

在氮化镓中添加其他元素，有可能使其宽禁带变窄，从而提高其作为光催化剂的光利用效率．在1123K的氮化温度下，用氧化镓（Ga2O3）和氧化锌（ZnO）粉末与流动的NH3反应900min制备出黄色的氮化镓与氧化锌的固溶体Gal-xZnxNO探讨了制备工艺对所得粉体的影响，通过x射线衍射（XRD），扫描电镜（SEM）以及紫外可见吸收光谱（UV—Vis）研究Gal-xZnxNO的晶体结构和光学性能．所得Gal-xZnxNO的粉末呈六角纤锌矿结构，紫外可见吸收光谱表明该物质的吸收峰位于可见光范围内．     

Study of titanium nitride for low-e coating application

The paper reports our novel work on chemical vapor deposition coating of titanium nitride (TiN) thin film on glass for energy saving. TiN films were deposited on glass substrates by atmospheric pressure chemical vapor deposition (APCVD) using titanium tetrachloride (TiCl4) and ammonia (NH3) as precur-sors. As a result, TiN films with a thickness of 500 nm were obtained. X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), atomic force microscopy (AFM), four-point probe method and optical spectroscopy were respectively employed to study the crystallization, microstructure, surface mor-phology, electrical and optical properties of the coated TiN films. The deposited TiN films are of NaCl structure with a preferred (200) orientation. The particles in the film are uniform. The reflectivity of the TiN coating in the near-infrared (NIR) band can reach over 40%, the visible transmittance is approxi-mately 60%, and the visible reflectivity is lower than 10%. The sheet electrical resistance is 34.5Ω. According to Drude theory, the lower sheet resistance of 34.5 Ω gives a high reflectivity of 71.5% around middle-far infrared band. The coated films exhibit good energy-saving performance.