不同杂散光模型对光刻掩膜特征尺寸影响研究

杂散光仿真模型在光刻投影系统应用中具有重要的作用。由于杂散光对光刻掩模特征尺寸CD(Critical Dimension)成像有一定的影响,亟需一种恰当的杂散光成像模型。通过采用PSF_F函数杂散光拟合模型和Kirk杂散光模拟模型,提出了一种改进的考虑杂散光成像的光刻模型。利用改进的杂散光模型研究了在相同杂散光总量下,不同比例中程、远程杂散光对特征尺寸的影响。结果显示,当总杂散光量相同时,仿真分析得出远程杂散光的影响大于中程杂散光,即远程杂散光的比例占的越大,显影后的特征尺寸比实际特征尺寸越小。     

亚纯函数微分多项式分担多项式的唯一性

研究了亚纯函数的微分多项式f~nf~′和g~ng~′IM分担一个多项式P(z)的唯一性问题,证明了当n22且多项式P(z)的次数小于等于n时,则f(z)=tg(z),或者f(z)=λ_1e~(λ∫P(z)dz),g(z)=2e~(-λ∫P(z)dz),其中,t,λ1λ2,λ为常数。     

凸凹函数的应用

讨论了上(下)凸函数的性质,应用上(下)凸函数的性质,给出了(Holder)不等式和均值不等式的一种新证明。     

对称离散事件系统状态树结构模型的控制函数不变性研究

针对对称离散事件系统中使用监督控制理论计算得到的自动机形式的监督控制器状态数较多且无法清晰反映控制逻辑等问题,提出了基于状态树结构的抽象控制函数计算方法。该方法通过充分利用系统的对称性,对避免缓冲区出现上溢或者下溢的性能指标,采用事件重标记映射提取各组中处于加工完成状态的组件数目,从而省去了各组件复杂的运行细节;然后利用状态树结构计算得到基于抽象状态信息的控制函数;最后,结合各组组件并行工作与串行工作的实例,分析所得控制函数的不变性,即在缓冲区容量固定的前提下,控制函数所需的状态信息与组件总数量无关。实验结果表明:在实际应用中借助控制函数的不变性可在结构相同的组件增减时免于重复计算控制函数;各组中重标记为同一事件的各可控事件可由同一控制函数进行使能,有效减少了控制函数的个数;相比于自动机形式的监督控制器,控制函数状态数更少且能更清晰地描述控制逻辑。     

偏对称正态分布的若干性质

定义了偏对称正态分布并研究了其性质.此类分布包括偏均匀正态分布,偏t正态分布,偏拉普拉斯正态分布,偏Logistic正态分布和偏三角正态分布等,探讨了此类分布的一些性质.     

从属于叶形区域的一类解析函数的三阶Hankel行列式

介绍了一类从属于叶形区域的一类解析函数类R(h),研究了此函数的三阶Hankel行列式,得到上界估计.所得结果改进了Hari Priya和Sharma[2]所得的结果.     

三角模糊综合评判在项目挣值管理中的应用

现有项目管理方法大多采用单一的确定值来描述挣值,无法准确地描述项目实际状态。针对这一缺陷,选取三角模糊语言度量值来表征项目活动进度,计算项目的模糊挣值。为减少使用单一三角模糊度量值带来的偏差,引入了模糊综合评判的方法,推导出相应的模糊挣值指标体系。最后通过案例演示了该指标体系的使用过程,证实该指标体系在实际软件项目管理过程中具有一定的使用价值。