磁镜中的可见光辐射研究

使用高分辨率的多道可见光探测系统测量了HER磁镜在晃荡电子位形形成时的等离子体可见光辐射(主要是H_α线),并对磁镜等离子体的有关特性及其涨落行为进行了研究。     

旋光法研究Co(phen)_3~(3+)同Co(Ⅱ)络合物的电子转移反应

应用Mureinik和Spiro方程到通过外球电子转移的(+)D-Co(phen)_3~(3+)外消旋反应,证明了电子转移反应对Co(Ⅲ)和Co(Ⅱ)络离子的浓度是一级的,V=k_2[Co(Ⅲ)][Co(Ⅱ)].测得在水溶液中其活化能Ea为24.5kJ/mol,活化熵ΔS~+为-151J/mol·K,20℃下的速度常数k_2为3.60 l/mol·S.作者还研究了水溶液中配体为H_2O、py、on、NH_3和bipy的六配位CO(Ⅱ)络离子对(+)D-Co(phen)_3~(3+)外消旋速度的影响,得出Co(Ⅱ)络离子同Co(phen)_3~(3+)的电子转移反应速度的顺序为: Co(H_2O)_6~(2+)相似文献   

板蓝根凝集素对小鼠胸腺淋巴细胞分裂作用的电镜观察

目的：研究板蓝根凝集素引起小鼠胸腺淋巴细胞分袭增殖过程中的超微结构变化。方法：用生物化学方法提取板蓝根凝集素，并测其凝集活性，以0．054mg/kg/d的剂量灌胃，连续30d，胸腺组织经处理后，用Epon812包埋，经超薄切片后，在电镜下观察，结果：与对照组相比，实验组小鼠胸腺淋巴细胞质内的线粒体、核糖体数量均较对照组多，处于分裂前期的细胞数目较对照组多。结论：板蓝根凝集素可能具有促进小鼠胸腺淋巴细胞分裂的作用。     

类氖Fe16+离子高激发态电子碰撞激发特性理论研究

基于全相对论扭曲波(RDW)电子碰撞激发计算程序REIE06,系统计算了类氖Fe16+离子基态1s22s22p6 1S0的2p,2s和1s电子激发到高激发态1s22s22p5 ns,1s22s2p6 ns和1s2s22p6 ns(n=3,4,5,6,7,8,9,10)精细结构能级的碰撞激发截面,详细研究了碰撞激发截面随入射电子能量和主量子数n的变化规律,拟合了公式,总结了一些有意义的结论.     

Fe/GaAs/Fe隧道结的磁电阻研究

用第一性原理的方法研究了Fe/GaAs/Fe隧道结的隧穿磁电阻(TMR).研究表明,TMR值对于界面的无序散射相当敏感,在考虑了界面无序的散射对电子输运的影响后,计算所得的TMR值与实验值吻合得很好.研究表明,界面无序的散射是造成TMR实验值很低的主要原因,而不是以往研究所认为的是界面处的自旋翻转的作用.     

稀土或过渡金属离子晶场光谱热移位的解析研究

按照稀土或过渡金属离子晶场光谱的理论，热移位包括不同特征的４项贡献，在本文中，我们用解析方法详细讨论了这４项贡献中最重要的单声子项听积分主值问题。     

可编程控制器(PLC)在焦炉煤气双缸交换机控制中的应用

煤气双缸交换机的电气装置是控制驱动焦炉中加热调节装置的关键设备.目前,国内生产的交换机仍采用位式控制.因此,故障频繁、维修费用高而且影响焦碳质量.本文介绍一种以PLC控制为主体的电气控制系统,它采用电子式接近开关做输入点,实现了对煤气双缸交换机的自动化控制,取得了显著的经济效益.     

Microstructure and oxidation behavior of carbon fiber reinforced SiC composite (Cf/SiC) with Mo–57Si–10B oxidation protection coating

Mo–57Si–10B (at.%) coating was prepared by the spark plasma sintering (SPS) technique on a 2D woven C_f/SiC composite, and the oxidation behavior of the bare and the coated C_f/SiC samples at 1300 ?°C were investigated. The coating was composed of a fine MoSi₂/MoB/SiO₂/Mo₂B₅ out layer and the inner SiO₂ interface layer. The mass gain percentage was approximately 0.25% after oxidation at 1300 ?°C for 100 ?h. The coated C_f/SiC substrate was effectively protected, owing to the rapid formation of the dense and protective borosilicate layer on the coating, the excellent microstructure stability of the coating and the inner SiO₂ interface layer.