0.1μV直流放大器的噪声和漂移的分析

分析了无输入变压器单通道斩波式直流放大器的噪声和漂移,得出了等效输入噪声和等效输入误差电压公式,给出了一种低噪声直流放大器方案,并讨论了放大器的稳定性。实验表明,该放大器可克服一般输入变压器耦合式高灵敏度放大器体积大,成本高,输入阻抗低,被测信号源不能浮地等缺点;信号源内阻小于1kΩ时,灵敏度高于0.1μV,时间漂移小于1μV/7h,响应时间小于5s。     

直流拖动系统J-P控制器参数设计方法

本文简要分析了采用I—P控制器的直流拖动系统的特点。以频率法为基础给出了I—P控制器参数的设计方法,这一方法比较直观,适合于工程设计应用。     

溅射功率对掺铝氧化锌薄膜光电学性质的影响

利用射频磁控溅射在BK-7玻璃基片上沉积掺铝氧化锌薄膜,研究溅射功率对薄膜光电性能的影响.当溅射功率从250 W增加到400 W时,X射线衍射的结果发现,250 W制备的薄膜只有(002)衍射峰,而300 W以上的样品则出现了新的(101)衍射峰;而且随着溅射功率的增加,(002)峰的强度减弱,(101)峰的强度增强.薄膜的厚度随溅射功率的增加而变厚,电阻率随溅射功率的增加而减小,从200 W功率时的24.6×1-0 4Ωcm减小到400W时的7.2×1-0 4Ωcm.样品在可见光区域的平均光学透射率都大于85%,其光学带隙随载流子浓度的减小而减小.     

基于EEAC和遗传禁忌算法的直流紧急功率支援最优策略研究

本文分析了直流紧急功率支援(EDCPS)提高系统暂态稳定性的机理,特别针对多机系统,根据扩展等面积法(EEAC) 将等值单机无穷大系统(OMIB)功角前三次正摆的暂态稳定裕度和暂态电压稳定裕度作为度量指标对紧急直流功率支援策略进行研究。通过在合适时刻投入直流功率支援,在OMIB功角的前二次正摆过程中提升直流功率﹑回摆过程中回降直流功率来提高暂态稳定裕度,同时采用遗传禁忌优化算法对各调制参数进行优化。最终,在给定的具体运行方式下,根据事先设定的电网关键线路潮流或来自EMS的实时潮流数据、预想故障集,利用FASTEST暂态分析计算软件和MATLAB的链接编程,实现离线或在线全面、快速、自动计算出针对某些严重的预想事故集的暂稳控制量,从而制作紧急直流功率支援最佳控制策略表,形成全网的控制策略表供电力系统技术人员实时匹配进行参考、分析、决策。用该算法得到的2010年南方电网±800kV云广特高压紧急直流系统功率控制策略,仿真结果表明基于该优化算法的紧急直流功率支援策略能最优地改善系统暂态稳定性。     

Effects of helium on titanium films and the helium diffusion

Using direct current-magnetron sputtering, Helium-trapped Ti films with a He/Ar mixture was studied. The relative helium content, helium depth profiles for the Ti films and crystallization capacity were analyzed by Enhanced Proton Backscattering Spectrometry （EPBS） and X-ray diffraction （XRD）. It was found that helium diffusion enhanced as more helium trapping into Ti films, and the He holding ratios were 95.9%, 94.9%, 93.9%, 82.8% when the Ti films with the He/Ti of concentrations of 9.7 at.%, 19.5 at.%, 19.7 at.%, 48.3 at.% were measured again 4 months later, respectively. The diffraction peaks became weak and wider, the peak of （002） plane was shifted to smaller diffraction angles and the relevant interplanar spacing d（hk,） increased gradually as more helium trapping into Ti films. The main peak was made trending to the （101） plane by both higher deposition temperature and more helium trapping.     

磁控溅射参数对ZrB2/ZrAlN纳米多层膜结构和性能的影响

选择ZrB2和ZrAlN作为个体层材料,利用超高真空射频磁控溅射系统在80 nm调制周期下,制备了一系列ZrB2/ZrAlN纳米多层膜,用XRD、表面轮廓仪和纳米力学测试系统分析了物相及晶体结构.研究表明：纳米多层膜体系的各项性能随着Ar/N2流量比例的变化而变化,多层膜的纳米硬度值和弹性模量均高于两种个体材料混合相的硬度值,残余应力也得到缓解,合适的N2气分压可以使多层膜体系的机械性能达到最佳.     

浅谈限流保护——电流截止负反馈分析及应用

本文从直流电机限流保护问题的提出入手,着重阐述了带电流截止负反馈的闭环调速系统的稳态结构图和静特性,及其在直流电动机系统中的应用。     

浅谈无功就地补偿技术

无功功率就地补偿是为了减少低压电网和用户内损耗的有效措施,本文主要对厂矿常用的中小型异步电动机无功就地补偿问题作一讨论,具有一定借鉴意义。     

钢管RPC轴压短柱的有限元分析

在建立钢管超高强混凝土有限元模型的基础上,通过对22根圆钢管RPC轴压短柱进行模拟分析,并与试验结果作对比,验证     

薄膜厚度对Cu膜光电性能的影响

在室温条件下,用直流磁控溅射Cu靶制备出了不同厚度的Cu膜,测量了Cu膜的光学透过率和面电阻,分析了光电性质薄膜厚度的变化情况．实验结果表明,随着Cu膜厚度的增加,其光学透过率逐渐减小,透过率在波长为580nm处出现峰值．Cu膜的面电阻随薄膜厚度的增加先急剧减小,然后减小变得缓慢,最后趋于定值．理论模拟了Cu膜的光学透过率随薄膜厚度的变化和光学透过率随入射光波长的变化,理论模拟结果与实验结果吻合．