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941.
采用溶胶凝胶法制备纳米TiO2以及稀土元素(La、Ce、Nd、Pr、Sm)掺杂纳米TiO2粉体.采用透射电镜和X射线衍射仪研究粉体形貌和晶体结构,利用TH2816型宽频LCR数字电桥测试分析粉体介电特性.研究结果表明:所有稀土元素掺杂均能提高纳米TiO2的相对介电常数和介电损耗;在Nd/纳米TiO2复合粉体中,掺杂浓度为Nd 2.5%(atom)时,样品相对介电常数达到峰值. 相似文献
942.
采用高温固相法,在800℃不同热处理时间合成了具有钙钛矿型的钒掺杂的含钛高炉渣催化剂(vanadium oxide modifie dtitanium-bearing blast furnace slag,VTBBFS).用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和紫外可见漫反射光谱对VTBBFS催化剂进行了表征,确定其具有钙钛矿结构;不同的热处理时间并未改变催化剂的晶相组成和表面形貌,但对催化剂的光吸收能力产生较大影响,使催化剂在紫外区域光吸收能明显提高,并发生红移.以白色念珠菌为实验菌种考察VTBBFS催化剂抗真菌能力.结果表明,热处理时间为2h时,VTBBFS催化剂具有较强的抗白色念珠菌能力,在普通光照下杀菌率可达到100%,并具有持续抑菌性能. 相似文献
943.
944.
采用溶胶-凝胶法将水溶性荧光黄染料掺杂到硅溶胶中,制备出荧光溶胶,研究了二氧化硅用量和染料用量对荧光溶胶的黏度、表面张力、相对荧光强度、紫外-可见吸收光谱等性能的影响。实验结果表明:随着二氧化硅用量的增加,荧光溶胶的黏度逐渐增加,表面张力逐渐减小。荧光溶胶的相对荧光强度和吸光度与荧光染液的相近;随着荧光染料用量的增加,荧光溶胶的相对荧光强度逐渐增加。当染料质量分数超过0.6%后,荧光溶胶的相对荧光强度开始有下降的趋势。 相似文献
945.
采用共沉淀法制备了不同钛含量的铜铈钦复合氧化物催化剂(Cu0.1 Ce0.9-xTixO2,X =0~0.3 (采用微反-色谱评价装置考察了 Cu0.1 Ce0.9-xTixO2催化CO氧化反应的活性,并采用氮吸附/脱附,X-射线衍射以及程序升温还原等技术对催化剂进行了表征。结果表明,适量Ti(x≤0.15)的加入,提高了 Cu0.1 Ce0.9-XTiXO2催化剂中CuO的分散度,从而提高了其催化活性。而当Ti含量过高(x=0.3 )时,Cu0.1 Ce0.9-XTixO2催化剂中CuO的分散度反而降低,从而导致其催化活性显著降低。 相似文献
946.
以金为催化剂,利用热蒸发方法合成掺杂铒(Er)的ZnS纳米带。X射线衍射(XRD)结果表明Er掺杂的ZnS纳米带仍具有六方纤锌矿结构。采用激发波长为244nm激发样品,发现Er掺杂的ZnS纳米带的光致发光(PL)谱中共有5个发光峰,它们的位置为437,520,549,673和805nm,分别对应ZnS纳米带本身缺陷,Au离子掺杂,以及Er~(3+)离子~4S_(3/2)-~4I_(15/2),~4F_(9/2)-~4I_(15/2)和~4I_(9/2)-~4I_(15/2)跃迁引起的发光。 相似文献
947.
采用溶胶-凝胶法制备了Gd^3+掺杂TiO2光催化剂,利用紫外-可见漫反射光谱对样品进行了表征.考察了纯TiO2和Gd^3+掺杂TiO2对碱性品红染料降解性能的影响.结果发现Gd^3+的掺入抑制了TiO2由锐钛矿相向金红石相的转变,与纯TiO2相比,Gd^3+掺杂TiO2催化剂在可见光区的吸收能力增强,该催化剂光催化降解碱性品红的活性提高了20%左右.实验表明,掺杂Gd^3+1%(质量分数),温度为25℃,底物浓度为20 mg·L^-1时对碱性品红染料降解的效果较好. 相似文献
948.
采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波赝势方法,对V掺杂AlN的电子结构和铁磁性质进行了研究.结果表明,V掺杂后,由于V 3d与N 2p轨道杂化在半导体能隙中产生自旋极化杂质带,材料表现出半金属铁磁性,其磁矩主要来自以V原子为中心的VN4四面体.另外,通过对V掺杂AlN的铁磁稳定性的研究发现,V原子之间为铁磁耦合时体系处于稳定的基态,并且有围绕N原子形成团簇的趋势,随着V原子间距离的增加,体系FM和AFM态的能量将趋于简并. 相似文献
949.
采用溶胶-凝胶法制备了钛酸钡和掺锶钛酸钡薄膜,结合DTA-TGA,XRD和SPM等分析手段,重点考察了锶掺杂对薄膜的结晶温度、粒径和晶胞参数的影响,发现随着锶含量的增加,Ba1-xSrxTiO3薄膜中晶体的晶胞参数逐渐减小,且锶的掺入可降低薄膜的结晶温度、减小粒径和粗糙度. 相似文献
950.
根据随机碰撞过程中的级联碰撞原理,跟踪载能粒子在固体内的慢化过程,选用SRIM2008软件模拟了Co、Al共掺杂ZnO靶材在溅射过程中离子与固体相互作用.研究了溅射过程原子的选择性溅射现象,溅射原子的能量、角度分布情况,得出ZnO基靶材溅射过程中离子与固体相互作用的规律.欲获得成分接近Zn0.85Co0.1Al0.05O的薄膜,最佳的溅射工艺条件为:Ar+离子以68°的角度入射,靶材成分采用Zn0.7Co0.23Al0.07O. 相似文献